搜索一下
登录/注册
首页
>
专利
>
寻找关于G03F7/20:曝光及其设备领域相关可售专利
G03F7/20领域相关在售专利
G03F大组
G03F1/00:用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F3/00:分色；色调值的校正
G03F5/00:网屏印刷法；其所用网屏
G03F7/00:图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F9/00:原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地
G03F1/00小组
G03F1/20:·用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1/22:·用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1/26:·相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1/36:·具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1/38:·具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F1/50:·未包含在G03F 1/20-G03F 1/26组中的空白掩膜；其制备
G03F1/52:·反射镜
G03F1/54:·吸收剂，例如不透明材料
G03F1/60:·基板
G03F1/62:·薄膜或薄膜集合，例如在支持框架上具有薄膜；其制备
G03F1/66:·专门适用于掩膜，空白掩膜或薄膜的容器；其制备
G03F1/68:·未包含在G03F 1/20至G03F 1/50组中的制备工艺
G03F1/88:·通过制备具有模拟浮雕的原版的照相过程的制备
G03F1/90:·采用蒙太奇方法制备
G03F1/92:·从印刷表面制备
找到
6
个相关信息
一种金属螺旋微纳结构的制备方法
一种金属螺旋微纳结构的制备方法
发明专利
有效专利
金属微纳结构制备
申请日：
2018-12-07
当前状态：
授权
国际分类号：
G03F7/20
、
G03F7/16
、
C23C14/30
、
C23C14/18
、
C23C14/04
发明人：
刘凯,王天堃
申请人：
中山科立特光电科技有限公司
一种直写式曝光机用轴向传动结构
一种直写式曝光机用轴向传动结构
实用新型
有效专利
直写式曝光机
申请日：
2019-11-20
当前状态：
授权
国际分类号：
G03F7/20
发明人：
王伟
申请人：
王伟
一种光刻二元谐衍射Alvarez透镜变焦系统的方法
一种光刻二元谐衍射Alvarez透镜变焦系统的方法
发明专利
有效专利
光学
申请日：
2018-07-27
当前状态：
授权
国际分类号：
G02B3/08
、
G02B5/18
、
G02B15/00
、
G02B27/00
、
G03F7/20
发明人：
侯昌伦,李泾渭,辛青,臧月
申请人：
杭州电子科技大学
一种书刊制造用晒版机
一种书刊制造用晒版机
实用新型
有效专利
晒版机
申请日：
2020-09-14
当前状态：
授权
国际分类号：
G03F7/20
发明人：
练运菁,练书铭,谢秋平,曾燕萍
申请人：
赣州红运彩印包装有限公司
一种LED生产用光刻装置
一种LED生产用光刻装置
实用新型
有效专利
LED生产
申请日：
2020-06-02
当前状态：
授权
国际分类号：
G03F7/20
发明人：
潘仲中
申请人：
潘仲中
一种净化曝光装置
一种净化曝光装置
发明专利
有效专利
微电子工艺设备
申请日：
2015-01-28
当前状态：
授权
国际分类号：
G03F7/20
发明人：
王强,吴庭溪,邓洁,朱海峰
申请人：
南通大学
同类专利
1
一种金属螺旋微纳结构的制备方法
2
一种直写式曝光机用轴向传动结构
3
多层膜填充型复合介质纳米周期光栅结构及其制备方法
4
一种光刻二元谐衍射Alvarez透镜变焦系统的方法
5
一种对1550nm波段手性光存在选择性透过差异的空间扭转三维纳米结构及其制备方法
6
一种书刊制造用晒版机
7
用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置
8
一种半导体晶圆生产用光刻胶收集杯结构
9
光阻液烘烤装置
10
一种晒版机的软片涂粉装置
版权所有：盲专网 ©2023 zlpt.xyz
蜀ICP备2023003576号
