[0008] 本发明的目的在于：克服上述现有技术的缺陷，提出一种净化曝光装置，其内部挥发气体不会泄露，确保操作人员的安全。
[0009] 为了达到上述目的，本发明提出的净化曝光装置，包括净化工作台，以及置于该净化工作台内的曝光光源、光刻胶显影液槽、漂洗液槽，所述的净化工作台包括工作腔体、进气系统、排气系统，所述进气系统包括位于工作腔体顶部的进气腔，进气腔与工作腔体连接处布置有散流板；所述排气系统包括位于工作腔体下方的排气腔，排气腔的后侧设置有用于和抽气设备连接的排气口；所述工作腔体的前端部设置有隔断低压腔，所述隔断低压腔具有供操作人员伸手进入工作腔体内部的操作通道，所述隔断低压腔的底部与排气腔连通。
[0010] 本发明将曝光光源、光刻胶显影液槽、漂洗液槽，置于净化工作台内部，杜绝了曝光和显影过程中挥发气体对人体的危害；借助净化工作台，工作人员可以在普通环境中进行操作，而不需要专门的无尘室，这大大降低了成本，尤其对于科研单位和教学单位具有重大意义。
[0011] 本发明的防泄漏是这样实现的：操作通道处设置有隔断低压区，隔断低压区内形成负压，以抽走从操作通道流出的气体；同时，由于低压区负压的作用，工作腔体内的气体和外界的大气通过操作通道被吸入，阻止了内部气体通过操作通道外泄和外界气体进入工作区；两股气流在操作通道内相汇后被迅速抽走，有效防止工作腔体内部气体外泄。
[0012] 本发明进一步的改进在于：
[0013] 1、所述净化工作台的工作腔体下方具有底座，所述光刻胶显影液槽、漂洗液槽嵌在该底座内。
[0014] 2、所述底座上设置有用于承载硅片的曝光台，所述曝光光源位于曝光台的上方。
[0015] 3、所述底座设置有用于遮挡曝光机光线的挡板，工作腔体内还设置有将曝光机与光刻胶显影液槽隔开的电动门。
[0016] 本发明增设挡板，用于遮蔽曝光机光线，避免光源对光刻胶体的影响；并增加了电动门，在爆光区进片和取片时打开，平时关闭。
[0017] 4、所述隔断低压腔内的气压范围为0.9-0.7个大气压。
[0018] 本发明净化工作台在隔断低压腔区形成了较大的负压和较大的排气流量，使操作通道附近的有害气体能够迅速的通过隔断低压区被抽走，同时低压隔断区外侧的大气也被快速抽入，有效防止了有害气体向大气泄露。
[0019] 5、所述操作通道的上部设置有挡块，挡块靠近工作腔体一侧设置有朝向工作腔体内侧的第一引流面，挡块靠近操作人员一侧设置有朝向操作人员的第二引流面，所述第一、第二引流面在挡块的最低处相接,呈现倒V型，工作腔体内的气体和外界大气分别在第一、第二引流面的引流作用下形成向下流动的趋势。
[0020] 借助挡块的两个引流面，提高内外气流相汇处的有序性，使工作腔体内的有害气体和外界大气能够更顺利的进入隔断低压区；由于第一、第二引流面在挡块的最低处相接，因此气流不存在漩涡和死角，有助于内部有害气体的快速彻底排出，杜绝了有害气体泄漏。
[0021] 由于挡块的作用，更可靠的确保了工作腔体内的气体不会从操作导通排向大气，从操作通道进入的大气也不会进入工作腔体的内部，使他们能够更顺利的从排气口被抽走。既保证了工作腔体内送风的纯净，又杜绝了有害气体的泄露。
[0022] 6、所述挡块的最低点位于挡块靠近工作腔体一侧的三分之一处。
[0023] 该设计可以增加外界大气的流量，巩固外界大气的对有害气体的阻隔作用；与此同时又能够适当提高有害气体进入操作通道的流速，促使有害气体快速排出，也能防止外界大气进入工作腔体。
[0024] 7、隔断低压腔两侧分别为外隔板和内隔板，所述外隔板和内隔板上开设有操作孔，操作孔之间形成所述的操作通道。
[0025] 8、所述内隔板下部开设有位于操作通道下方的排气孔，用于将工作腔体下部的气体通过排气孔排入隔断低压腔，减少气体的反弹。
[0026] 9、所述排气孔直径为5-10mm，孔间距为10-20mm。
[0027] 使用排气孔能够即时的排出工作腔体底部靠近操作通道的气体，起到防止气流反弹的作用，从而进一步提高操作通道内部的气流有序性，防止气流紊乱，有利于有害气体的快速排尽。
[0028] 综上，本发明巧妙地在工作腔体前端部的操作通道下方设置隔离低压区，并借助带有引流面的挡块和设置于隔板下部的排气孔，使净化曝光装置真正的实现了不泄露。并且本发明结构简单，改造费用较低，但效果很好，适合于业内推广。
