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寻找关于G03F7/00:图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备领域相关可售专利
G03F7/00领域相关在售专利
G03F大组
G03F1/00:用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F3/00:分色；色调值的校正
G03F5/00:网屏印刷法；其所用网屏
G03F7/00:图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F9/00:原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地
G03F1/00小组
G03F1/20:·用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1/22:·用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1/26:·相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1/36:·具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1/38:·具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F1/50:·未包含在G03F 1/20-G03F 1/26组中的空白掩膜；其制备
G03F1/52:·反射镜
G03F1/54:·吸收剂，例如不透明材料
G03F1/60:·基板
G03F1/62:·薄膜或薄膜集合，例如在支持框架上具有薄膜；其制备
G03F1/66:·专门适用于掩膜，空白掩膜或薄膜的容器；其制备
G03F1/68:·未包含在G03F 1/20至G03F 1/50组中的制备工艺
G03F1/88:·通过制备具有模拟浮雕的原版的照相过程的制备
G03F1/90:·采用蒙太奇方法制备
G03F1/92:·从印刷表面制备
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个相关信息
多层膜填充型复合介质纳米周期光栅结构及其制备方法
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发明专利
有效专利
一种基于纳米压印技术制作光学高性能反射元件﹑高透射超窄带滤波器的一维光子晶体多层膜填充型复合介质光栅结构。
申请日：
2013-11-08
当前状态：
授权
国际分类号：
G02B5/18
、
G03F7/00
发明人：
黄婧睿,袁长胜,葛海雄,陈延峰
申请人：
无锡英普林纳米科技有限公司
一种对1550nm波段手性光存在选择性透过差异的空间扭转三维纳米结构及其制备方法
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发明专利
有效专利
微纳加工
申请日：
2020-08-19
当前状态：
授权
国际分类号：
G02B5/00
、
G03F7/00
、
B82Y20/00
、
B82Y40/00
发明人：
张雪峰,屠蕊,张鉴
申请人：
杭州电子科技大学
光触媒智能一体机
光触媒智能一体机
实用新型
失效专利
申请日：
2015-12-31
当前状态：
权利终止
国际分类号：
G03F7/00
发明人：
李国新
申请人：
李国新
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