实施方案
[0017] 下面结合具体实施例对本发明作进一步分析。
[0018] 实例1:将SiO2、GeO2、Al2O3、Ga2O3、NaF、YF3和EuF3粉体,按40SiO2: 5GeO2:25Al2O3:5Ga2O3:15NaF:9YF3:1EuF3(摩尔比)的配比精确称量后置于玛瑙研钵中,研磨半小时以上使其均匀混合,而后置于坩埚中,于程控高温箱式电阻炉中加热到1500℃后保温1小时,然后,将玻璃熔液快速倒入500℃预热的铜模中成形;将获得的前驱玻璃放入电阻炉中,在670℃保温1小时,得到透明玻璃陶瓷。
[0019] X射线衍射图表明在氧化物玻璃基体中析出正交结构YF3晶相(图1);透射电镜观察证实玻璃陶瓷中有大量尺寸为20nm左右的YF3颗粒均匀分布于基体中(图2);X射线光电子谱分析表明Eu掺杂离子同时以Eu2+和 Eu3+状态存在(图3);电子能谱与荧光光谱分析表明Eu2+位于玻璃基体中而Eu3+偏聚于YF3纳米晶中。荧光光谱仪测量得到在365nm激发条件下的温度相关光致发射谱(图4),可探测到源自Eu2+的蓝光发射和Eu3+的红光发射。随着温度升高,Eu2+离子发射强度急剧下降而Eu3+离子发射强度只发生微弱变化,以二者荧光强度比作为测温参数(图5),可得到测温灵敏度为2﹪K-1。
[0020] 实例2:将SiO2、GeO2、Al2O3、Ga2O3、NaF、YF3和EuF3粉体,按40SiO2: 5GeO2:25Al2O3:5Ga2O3:15NaF:9.9YF3:0.1EuF3(摩尔比)的配比精确称量后置于玛瑙研钵中,研磨半小时以上使其均匀混合,而后置于坩埚中,于程控高温箱式电阻炉中加热到1550℃后保温0.5小时,然后,将玻璃熔液快速倒入500℃预热的铜模中成形;将获得的前驱玻璃放入电阻炉中,在670℃保温2小时,得到Eu2+和Eu3+共掺杂的透明玻璃陶瓷。以Eu2+/Eu3+荧光强度比作为测-1
温参数,可得到测温灵敏度为1.4﹪K 。
[0021] 实例3:将SiO2、GeO2、Al2O3、Ga2O3、NaF、YF3和EuF3粉体,按40SiO2: 5GeO2:25Al2O3:5Ga2O3:14NaF:7YF3:4EuF3(摩尔比)的配比精确称量后置于玛瑙研钵中,研磨半小时以上使其均匀混合,而后置于坩埚中,于程控高温箱式电阻炉中加热到1400℃后保温6小时,然后,将玻璃熔液快速倒入500℃预热的铜模中成形;将获得的前驱玻璃放入电阻炉中,在600℃保温2小时,得到Eu2+和Eu3+共掺杂的透明玻璃陶瓷。以Eu2+/Eu3+荧光强度比作为测温参数,可得到测温灵敏度为1.0﹪K-1。
[0022] 实例4:将SiO2、GeO2、Al2O3、Ga2O3、NaF、YF3和EuF3粉体,按40SiO2: 5GeO2:25Al2O3:5Ga2O3:18NaF:6.9YF3:0.1EuF3(摩尔比)的配比精确称量后置于玛瑙研钵中,研磨半小时以上使其均匀混合,而后置于坩埚中,于程控高温箱式电阻炉中加热到1500℃后保温2小时,然后,将玻璃熔液快速倒入500℃预热的铜模中成形;将获得的前驱玻璃放入电阻炉中,在
750℃保温2小时,得到Eu2+和Eu3+共掺杂的透明玻璃陶瓷。以 Eu2+/Eu3+荧光强度比作为测温参数,可得到测温灵敏度为1.2﹪K-1。
[0023] 实例5:将SiO2、GeO2、Al2O3、Ga2O3、NaF、YF3和EuF3粉体,按40SiO2: 5GeO2:25Al2O3:5Ga2O3:7NaF:17.9YF3:0.1EuF3(摩尔比)的配比精确称量后置于玛瑙研钵中,研磨半小时以上使其均匀混合,而后置于坩埚中,于程控高温箱式电阻炉中加热到1600℃后保温1小时,然后,将玻璃熔液快速倒入500℃预热的铜模中成形;将获得的前驱玻璃放入电阻炉中,在
600℃保温10小时,得到Eu2+和Eu3+共掺杂的透明玻璃陶瓷。以Eu2+/Eu3+荧光强度比作为测温-1
参数,可得到测温灵敏度为1.7﹪K 。
[0024] 实例6:将SiO2、GeO2、Al2O3、Ga2O3、NaF、YF3和EuF3粉体,按40SiO2: 5GeO2:25Al2O3:5Ga2O3:7NaF:17YF3:1EuF3(摩尔比)的配比精确称量后置于玛瑙研钵中,研磨半小时以上使其均匀混合,而后置于坩埚中,于程控高温箱式电阻炉中加热到1600℃后保温1小时,然后,将玻璃熔液快速倒入500℃预热的铜模中成形;将获得的前驱玻璃放入电阻炉中,在600℃保温6小时,得到Eu2+和Eu3+共掺杂的透明玻璃陶瓷。以Eu2+/Eu3+荧光强度比作为测温参数,可得到测温灵敏度为1.9﹪K-1。
[0025] 上述实施例并非是对于本发明的限制,本发明并非仅限于上述实施例,只要符合本发明要求,均属于本发明的保护范围。