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寻找关于C30B35/00:未包括在其他分类位置中的专门适用于单晶或具有一定结构的均匀多晶材料的生长、制备或后处理的一般装置领域相关可售专利
C30B35/00领域相关在售专利
C30B大组
C30B1/00:直接自固体的单晶生长
C30B3/00:共析材料的定向分层
C30B5/00:凝胶的单晶生长
C30B7/00:常温液态溶剂之溶液，例如水溶液的单晶生长
C30B9/00:使用熔融态溶剂之熔体的单晶生长
C30B11/00:正常凝固法或温度梯度凝固法的单晶生长，例如晶体生长坩埚下降法Bridgman-Stockbarger法
C30B13/00:区域熔融法单晶生长；区域熔融法精炼
C30B15/00:熔融液提拉法的单晶生长，例如Czochralski法
C30B17/00:生长期间籽晶保留在熔融液中的单晶生长，例如Necken-Kyropoulos法
C30B19/00:液相外延层生长
C30B21/00:共晶材料的定向凝固
C30B23/00:冷凝气化物或材料挥发法的单晶生长
C30B25/00:反应气体化学反应法的单晶生长，例如化学气相沉积生长
C30B27/00:保护流体下的单晶生长
C30B28/00:制备具有一定结构的均匀多晶材料
C30B29/00:以材料或形状为特征的单晶或具有一定结构的均匀多晶材料
C30B30/00:利用电场、磁场、波能或其他特定物理条件的作用为特征来制备单晶或具有一定结构的均匀多晶材料
C30B31/00:单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之扩散或掺杂工艺；其所用装置
C30B33/00:单晶或具有一定结构的均匀多晶材料的后处理
C30B35/00:未包括在其他分类位置中的专门适用于单晶或具有一定结构的均匀多晶材料的生长、制备或后处理的一般装置
C30B1/00小组
C30B1/02:·热处理法，例如应变退火
C30B1/10:·固相反应法或多相扩散法
C30B1/12:·生长期间的压力处理法
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