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一种制备纳米二氧化硅的方法   0    0

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专利申请流程有哪些步骤?
专利申请流程图
申请
申请号:指国家知识产权局受理一件专利申请时给予该专利申请的一个标示号码。唯一性原则。
申请日:提出专利申请之日。
2018-09-10
申请公布
申请公布指发明专利申请经初步审查合格后,自申请日(或优先权日)起18个月期满时的公布或根据申请人的请求提前进行的公布。
申请公布号:专利申请过程中,在尚未取得专利授权之前,国家专利局《专利公报》公开专利时的编号。
申请公布日:申请公开的日期,即在专利公报上予以公开的日期。
2020-04-10
授权
授权指对发明专利申请经实质审查没有发现驳回理由,授予发明专利权;或对实用新型或外观设计专利申请经初步审查没有发现驳回理由,授予实用新型专利权或外观设计专利权。
预估到期
发明专利权的期限为二十年,实用新型专利权期限为十年,外观设计专利权期限为十五年,均自申请日起计算。专利届满后法律终止保护。
2038-09-10
基本信息
有效性 实质审查 专利类型 发明专利
申请号 CN201811051194.2 申请日 2018-09-10
公开/公告号 CN110885087A 公开/公告日 2020-03-17
授权日 预估到期日 2038-09-10
申请年 2018年 公开/公告年 2020年
缴费截止日
分类号 C01B33/12B82Y40/00 主分类号 C01B33/12
是否联合申请 独立申请 文献类型号 A
独权数量 1 从权数量 7
权利要求数量 8 非专利引证数量 0
引用专利数量 0 被引证专利数量 2
非专利引证
引用专利 被引证专利 CN202011119306.0
专利权维持 99 专利申请国编码 CN
专利事件 事务标签 公开、实质审查
申请人信息
申请人 第一申请人
专利权人 临沂大学 当前专利权人 临沂大学
发明人 宋兰兰、于跃、江秀聪、梁慧、聂红娇、戴志超 第一发明人 宋兰兰
地址 山东省临沂市兰山区双岭路中段临沂大学科技处 邮编 276005
申请人数量 1 发明人数量 6
申请人所在省 山东省 申请人所在市 山东省临沂市
代理人信息
代理机构
专利代理机构是经省专利管理局审核,国家知识产权局批准设立,可以接受委托人的委托,在委托权限范围内以委托人的名义办理专利申请或其他专利事务的服务机构。
代理人
专利代理师是代理他人进行专利申请和办理其他专利事务,取得一定资格的人。
摘要
本发明公开了一种制备纳米二氧化硅的方法,该方法包括以下步骤:(1)配制含有硅源的溶液A和含有沉淀剂的溶液B;(2)将溶液A和溶液B加入到超重力微反应装置中反应得到前驱体浆料;(3)将前驱体浆料进行溶剂热处理;(4)将产物固液分离,并进行洗涤、干燥、焙烧处理得到纳米二氧化硅材料。本发明在超重力微反应装置中完成,该装置包括微反应盘和填料层,且二者之间同轴反向旋转,在使得原料快速均匀混合的同时,大大强化了传质效果,降低了产物的成核尺寸,提高了纳米材料的分散性和均匀性,减少了能耗。
  • 摘要附图
    一种制备纳米二氧化硅的方法
  • 说明书附图:图1
    一种制备纳米二氧化硅的方法
  • 说明书附图:图2
    一种制备纳米二氧化硅的方法
  • 说明书附图:图3
    一种制备纳米二氧化硅的方法
  • 说明书附图:图4
    一种制备纳米二氧化硅的方法
  • 说明书附图:图5
    一种制备纳米二氧化硅的方法
  • 说明书附图:图6
    一种制备纳米二氧化硅的方法
  • 说明书附图:图7
    一种制备纳米二氧化硅的方法
  • 说明书附图:图8
    一种制备纳米二氧化硅的方法
  • 说明书附图:图9
    一种制备纳米二氧化硅的方法
  • 说明书附图:图10
    一种制备纳米二氧化硅的方法
  • 说明书附图:图11
    一种制备纳米二氧化硅的方法
  • 说明书附图:图12
    一种制备纳米二氧化硅的方法
  • 说明书附图:图13
    一种制备纳米二氧化硅的方法
  • 说明书附图:图14
    一种制备纳米二氧化硅的方法
  • 说明书附图:图15
    一种制备纳米二氧化硅的方法
  • 说明书附图:图16
    一种制备纳米二氧化硅的方法
  • 说明书附图:图17
    一种制备纳米二氧化硅的方法
  • 说明书附图:图18
    一种制备纳米二氧化硅的方法
  • 说明书附图:图19
    一种制备纳米二氧化硅的方法
  • 说明书附图:图20
    一种制备纳米二氧化硅的方法
法律状态
序号 法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
1 2020-04-10 实质审查的生效 IPC(主分类): C01B 33/12 专利申请号: 201811051194.2 申请日: 2018.09.10
2 2020-03-17 公开
权利要求
权利要求书是申请文件最核心的部分,是申请人向国家申请保护他的发明创造及划定保护范围的文件。
1.一种制备纳米二氧化硅的方法,其特征在于包括如下步骤:
(1)配制含有硅源的溶液A和含有沉淀剂的溶液B,其中溶液A和溶液B中均溶有表面活性剂;
(2)将溶液A和溶液B加入到超重力微反应装置中反应得到前驱体浆料;
(3)将步骤(2)中的前驱体浆料与等质量的去离子水置于高压反应釜中,然后加入分散剂和矿化剂溶剂热处理;
(4)将溶剂热处理后的混合物固液分离,固体经洗涤、干燥、焙烧后得到平均粒径为10~100nm的纳米二氧化硅;
其中,所述超重力微反应装置包括壳体总成、超重力微反应系统、进样轴和动力传动系统;进样轴中设有进样管;超重力微反应系统由转鼓、填料层和微反应盘组成,填料层与转鼓形成密闭腔,微反应盘置于密闭腔中部;微反应盘中分布有尺寸范围为0.01~2mm的微反应通道,微反应盘外缘与填料层之间的水平距离为10~100mm;所述动力传动系统包括电机、第一传动轴、第二传动轴、联动装置,其中第一传动轴为空心装置并与转鼓固定连接,第二传动轴穿过第一传动轴与微反应盘固定连接;第一传动轴内壁设有内齿圈,与第二传动轴上的1#齿轮和2#齿轮组组成联动装置,其中通过固定架和固定轴来固定2#齿轮组的相对位置;所述微反应盘与填料层之间通过联动装置实现同轴反向旋转,其中微反应盘的转速为200~4000rpm,微反应盘与填料层之间的转速比为(1~5):1。

2.根据权利要求1所述的制备纳米二氧化硅的方法,其特征在于:溶液A中硅源为硅酸钠,溶剂为去离子水,其中硅酸钠的质量浓度为10-20%;溶液B中沉淀剂为硝酸铵、氯化铵、硫酸铵中的一种或多种,且沉淀剂在溶液B中为饱和状态。

3.根据权利要求1所述的制备纳米二氧化硅的方法,其特征在于:溶液A中硅源为正硅酸乙酯,溶剂为无水乙醇,其中正硅酸乙酯的浓度为0.2~10mol/L;溶液B中沉淀剂为氨水,溶剂为无水乙醇与去离子水的混合液,其中氨水在溶液B中的浓度为0.1~3mol/L,乙醇与去离子水的体积比为(0.1~1):1。

4.根据权利要求1所述的制备纳米二氧化硅的方法,其特征在于:表面活性剂在溶液A和/或溶液B中的浓度为0.1~1mol/L,所述表面活性剂为十六烷基三甲基溴化铵、十二烷基苯磺酸钠、十二烷基硫酸钠、十六烷基磺酸钠、油酸钠、硬脂酸、壬基酚聚氧乙烯醚、月桂醇聚氧乙烯醚、月桂酸甘油酯、月桂基硫酸钠中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的制备纳米二氧化硅的方法,其特征在于:步骤(2)中溶液A和溶液B之间的体积流量比为1:(1~6),反应温度为20~50℃。

6.根据权利要求1所述的制备纳米二氧化硅的方法,其特征在于:步骤(3)中溶剂热处理温度为80~200℃,处理压力为0.5~2MPa,处理时间为1~24h;其中,分散剂的浓度为0.1~2mol/L,矿化剂的浓度为0.01~0.5mol/L,所述分散剂为乙二醇、丙三醇、聚乙烯吡咯烷酮、聚丙烯酰胺、聚乙二醇(400~2000)、聚乙烯醇中的一种或多种;所述矿化剂为盐酸、氢氟酸、硫酸、硝酸、磷酸、亚磷酸、甲酸、乙酸、草酸、酒石酸、氟化钠、氟化钾、氟化铵中的一种或多种。

7.根据权利要求1所述的制备纳米二氧化硅的方法,其特征在于:步骤(4)中通过抽滤或离心方法进行固液分离,然后依次用去离子水、无水乙醇洗涤,洗涤后在40~80℃下烘干
3~10h,最后在400~700℃条件下焙烧3~12h。

8.根据权利要求1所述的制备纳米二氧化硅的方法,其特征在于:微反应盘的转速为
900~2400rpm,微反应盘与填料层之间的转速比为(1~2.5):1,微反应通道的尺寸范围为
0.1~1mm,制备的二氧化硅分散性高,粒径尺寸分布为10~30nm。
说明书

技术领域

[0001] 本发明涉及一种纳米二氧化硅的制备方法。

背景技术

[0002] 纳米二氧化硅由于具有对抗紫外线、提高材料抗老化等性能,在催化、涂料、橡胶、化妆品、医药等方面得到广泛应用。目前,纳米二氧化硅的制备方法有机械粉碎法、化学气相沉积法、沉淀法、溶胶凝胶法等。但上述制备方法中得到的二氧化硅粉体颗粒大,粒度分布不均匀,且工艺复杂不易控制。
[0003] 微反应技术是利用一种单元反应界面尺度为微米量级的微型化的化学反应系统进行纳米材料制备的技术,该技术装置具有比表面积大,传递速率高,接触时间短,副产物少等特点。但在制备纳米材料过程中,微通道反应器容易发生通道堵塞和清理困难等为题。超重力场技术是利用比地球重力加速度大得多的超重力环境对传质和微观混合过程进行强化的一种技术。该技术使反应物分子在超重力环境下产生流动接触,巨大的剪切力使液体破碎成纳米级的膜、丝和滴,产生巨大的和快速更新的新界面,强化了传质过程,可实现反应转化率和选择性的提高。

发明内容

[0004] 本发明提供一种制备纳米二氧化硅的方法,该方法在一种超重力微反应装置中进行,可极大的缩短了原料之间的接触时间,强化雾化效果和传质过程,与传统制备工艺相比,该方法工艺简单,能耗低,得到的二氧化硅粒径尺寸均一可控。
[0005] 本发明的目的是通过下面技术方案具体实现,然而本发明可以不同的形式来实施,并且不应该被解释为限于本文所阐述的实施方式。相反,提供这些实施方式,以使得本发明对于本领域技术人员来说是彻底和完整的,并且将充分地传达本发明的范围。
[0006] 除非另有定义,否则本文所用的所有技术和科学术语具有如本发明所属技术领域的普通技术人员所通常理解的相同含义。在本文的描述中所使用的术语是用于描述特定的实施方式,而不是对其进行限制。
[0007] 本发明的主要技术方案如下:首先配制含有硅源的溶液A和含有沉淀剂的溶液B,其中溶液A和溶液B中均溶有表面活性剂;然后将溶液A和溶液B加入到超重力微反应装置中反应得到前驱体浆料,将前驱体浆料与等质量的去离子水置于高压反应釜中后,加入分散剂和矿化剂溶剂热处理,最后将溶剂热处理后的混合物固液分离,固体经洗涤、干燥、焙烧后得到粒径尺寸为10~100nm的纳米二氧化硅。
[0008] 在本发明方法中,反应原料可以有两种选择方案,一种原料选择方案是:溶液A中硅源为硅酸钠,溶剂为去离子水,其中硅酸钠的质量浓度为10-20%;溶液B中沉淀剂为硝酸铵、氯化铵、硫酸铵中的一种或多种,且沉淀剂在溶液B中为饱和状态。另一种原料选择方案是:溶液A中硅源为正硅酸乙酯,溶剂为无水乙醇,其中正硅酸乙酯的浓度为0.2~10mol/L;溶液B中沉淀剂为氨水,溶剂为无水乙醇与去离子水的混合液,其中氨水在溶液B中的浓度为0.1~3mol/L,乙醇与去离子水的体积比为(0.1~1):1。在上述两种原料选择方案中,溶液A和溶液B中均加入了表面活性剂,且表面活性剂在溶液A和/或溶液B中的浓度为0.1~
1mol/L,其中表面活性剂可以是十六烷基三甲基溴化铵、十二烷基苯磺酸钠、十二烷基硫酸钠、十六烷基磺酸钠、油酸钠、硬脂酸、壬基酚聚氧乙烯醚、月桂醇聚氧乙烯醚、月桂酸甘油酯、月桂基硫酸钠中的一种或多种。
[0009] 优选的,在本发明方法所述的在超重力微反应装置反应过程中,溶液A和溶液B之间的体积流量比为1:(1~6),反应温度为20~50℃。
[0010] 优选的,在本发明方法所述的溶剂热处理步骤中,溶剂热处理温度为80~200℃,处理压力为0.5~2MPa,处理时间为1~24h,分散剂的浓度为0.1~2mol/L,矿化剂的浓度为0.01~0.5mol/L。其中分散剂可以是乙二醇、丙三醇、聚乙烯吡咯烷酮、聚丙烯酰胺、聚乙二醇(400~2000)、聚乙烯醇中的一种或多种,矿化剂可以选择盐酸、氢氟酸、硫酸、硝酸、磷酸、亚磷酸、甲酸、乙酸、草酸、酒石酸、氟化钠、氟化钾、氟化铵中的一种或多种。
[0011] 优选的,在溶剂热处理之后对产品通过抽滤或离心方法进行固液分离,依次用去离子水、无水乙醇洗涤,洗涤后在40~80℃下烘干3~10h,最后在400~700℃条件下焙烧3~12h,最终得到纳米二氧化硅产品。
[0012] 本发明所使用的超重力微反应装置包括壳体总成、超重力微反应系统、进样轴和动力传动系统。其中壳体总成由外壳、顶板、底座、隔板和用于连接固定的固定件组成。超重力微反应系统由转鼓、填料层和微反应盘组成,填料层与转鼓形成密闭腔,微反应盘置于密闭腔中部,且微反应盘外缘与填料层之间的水平距离为10~100mm。进样轴通过固定件与顶板固定,内部设有进样管。
[0013] 动力传动系统包括传动轴、电机、轴承和联动装置,其中第一传动轴为空心装置,所述第一传动轴在穿过第二隔板上的第二轴承和第一隔板上的第一轴承后通过1#固定底座与转鼓连接;第二传动轴依次穿过第三隔板上的第三轴承、第二隔板上的第四轴承和第一传动轴的空心部分后通过2#固定底座与微反应盘连接。联动装置包括设在第一传动轴内壁上的内齿圈、第二传动轴上的1#齿轮和2#齿轮组,通过固定架和固定轴来固定2#齿轮组的相对位置,最终实现转鼓及填料层与微反应盘之间的同轴反向转动,微反应盘的转速为200~4000rpm。其中第二转动轴与转鼓之间通过密封圈密封连接,并且进样轴、转鼓、密闭腔、微反应盘、第一传动轴、第二传动轴具有共同的轴心线。
[0014] 优选的,电机与第三传动轴连接,并通过套在第二转动轴上的1#锥齿轮和套在第三传动轴上的2#锥齿轮组成的锥齿轮联动装置带动第二传动轴转动。可通过改变1#锥齿轮和2#锥齿轮之间的齿数比调整第二转动轴与第三转动轴之间的转速比;可通过改变1#齿轮、2#齿轮以及内齿圈之间的齿数比使微反应盘与转鼓之间的转速比,其中微反应盘与填料层之间的转速比为(1~5):1。
[0015] 在本发明中所采用的超重力微反应装置中,进样系统和超重力微反应系统有两种不同的设计。
[0016] 在其中一种装置中,微反应盘由上盘和下盘组成并通过螺栓将上下盘固定,上盘与下盘之间形成混料腔和微反应通道,混料腔位于微反应盘的中心位置并由多个挡板均匀分割。微反应通道尺寸范围为0.01~2mm并呈直线型放射状或弧线型放射状分布,微反应通道与混料腔连通且其尺寸随着向微反应盘的外缘的延伸而缩小,并在接近于微反应盘外缘处呈扩径结构。上盘轴心位置设置有圆孔,圆孔外缘设有高于上盘外表面的台面;下盘内侧轴心位置设有柱状凹槽。进样轴内部还设有环形进料腔,环形进料腔底部与进样管连接。进样轴在穿过上盘的圆孔后尺寸收缩呈锥形结构并在最末端形成实心柱状凸起并楔入到下盘的柱状凹槽中。进样轴内部还设有环形进料腔,进样管与环形进料腔底部连通并延伸至进样轴的锥形面上。进样轴与转鼓之间、进样轴与圆孔之间、柱状凸起与柱状凹槽之间均通过密封圈连接。
[0017] 在另外一种装置中,进样轴通过3#固定底座与雾化盘连接,其中雾化盘半径尺寸不大于微反应盘半径尺寸,不小于进样轴的半径尺寸。进样管与进样口连接并延伸至进样轴末端,在雾化盘中心位置设有与进样管位置相对应且呈文丘里形的进样孔道;微反应盘与雾化盘的间距为0.01~0.1mm,微反应盘的顶面与雾化盘的底面分布有尺寸范围为0.01~1mm凹槽作为微反应通道。其中雾化盘上的微反应通道呈蜂窝状分布,微反应盘上的微反应通道呈蜂窝状分布,或着在雾化盘投影部位上呈蜂窝中分布而在投影部位之外处呈直线型放射状或弧型放射状分布。
[0018] 本发明所述的制备纳米二氧化硅的方法中,可通过调变微反应盘与填料层的转速以及微反应通道尺寸实现二氧化硅粒径尺寸的可调变性,且所得到的纳米二氧化硅粒径分布均一。优选的,微反应盘的转速为900~2400rpm,微反应盘与填料层之间的转速比为(1~2.5):1,微反应通道的尺寸范围为0.1~1mm,制备的二氧化硅平均粒径尺寸为10~30nm。
[0019] 与现有技术相比,本发明采用超重力微反应装置来制备纳米二氧化硅,本方法利用微反应通道可使反应原料快速均匀混合,并在超重力和剪切力的作用下使原料不断的被破碎成纳米级的膜、丝和滴,产生巨大的和快速更新的新界面,强化了传质效果,降低了产物的成核尺寸,提高了纳米材料的分散度和均匀性。本发明工艺简单,原料选择广泛,生产效率高,能耗低,得到的二氧化硅粒径尺寸均一可控,具有很好的工业化生产价值。
[0020] 本发明的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

实施方案

[0024] 为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明具体实施例及相应的附图对本发明技术方案进行清楚完整地描述。此处所描述的实施方式仅用于说明和解释本发明,并不用于限制本发明,本发明的保护范围仍以权利要求书所公开的内容为准。
[0025] 基于本发明中的实施例,本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
[0026] 实施例1:将硅酸钠,油酸钠溶于去离子水中得到溶液A,其中硅酸钠的质量浓度为15%,油酸钠的浓度为0.1mol/L;将油酸钠及过量硫酸铵溶于去离子水中,取溶液部分得到油酸钠浓度为
0.1mol/L的溶液B;开启超重力微反应装置,调节微反应盘的转速至1000rpm,填料层的转速至500rpm,其中微反应通道尺寸为1~2mm;将溶液A和溶液B以1:3的比例泵入到超重力微反应装置中,同时控制反应温度为35℃;将反应所得的前驱体浆料泵入到高压反应釜中,加入等质量的去离子水后加入一定量的聚丙烯酰胺和氢氟酸并搅拌均匀,其中聚丙烯酰胺的浓度为0.3mol/L,氢氟酸的浓度为0.05mol/L,然后对高压反应釜中的混合物在120℃下溶剂热处理6h,期间通控制反应釜中压力维持在1MPa;溶剂热处理后通过离心方式对悬浊液进行固液分离,固体部分依次用去离子水和无水乙醇洗涤后在80℃下烘干5h,最后在550℃下焙烧6h后得到粒径分布为60~85nm的二氧化硅粉体材料。
[0027] 实施例2:配制正硅酸乙酯浓度为3mol/L、十六烷基三甲基溴化铵浓度为0.3mol/L的乙醇溶液作为溶液A;将氨水滴加到去离子水和无水乙醇的混合液后加入十六烷基三甲基溴化铵搅拌均匀得到溶液B,其中氨水在溶液B中的浓度为0.5mol/L,十六烷基三甲基溴化铵浓度为
0.3mol/L,去离子水与乙醇的体积比为2:1;开启超重力微反应装置,调节微反应盘的转速至1000rpm,填料层的转速至500rpm,其中微反应通道尺寸为1.5mm;将溶液A和溶液B以1:
2.5的比例泵入到超重力微反应装置中,同时控制反应温度为35℃;将反应所得的前驱体浆料泵入到高压反应釜中,加入等质量的去离子水后加入一定量的聚乙烯吡咯烷酮和稀硫酸并搅拌均匀,其中聚乙烯吡咯烷酮的浓度为0.1mol/L,硫酸的浓度为0.1mol/L,然后对高压反应釜中的混合物在120℃下溶剂热处理6h,期间通控制反应釜中压力维持在1MPa;溶剂热处理后通过离心方式对悬浊液进行固液分离,固体部分依次用去离子水和无水乙醇洗涤后在80℃下烘干5h,最后在550℃下焙烧6h后得到粒径分布为75~100nm的二氧化硅粉体材料。
[0028] 实施例3:将硅酸钠,十二烷基苯磺酸钠溶于去离子水中得到溶液A,其中硅酸钠的质量浓度为
20%,十二烷基苯磺酸钠的浓度为0.2mol/L;配制十二烷基苯磺酸钠浓度为0.2mol/L的水溶液,然后加入过量氯化铵搅拌后取上清液得到溶液B;开启超重力微反应装置,调节微反应盘的转速至2000rpm,填料层的转速至1500rpm,其中微反应通道尺寸为0.5~1mm;将溶液A和溶液B以1:3.5的比例泵入到超重力微反应装置中,同时控制反应温度为35℃;将反应所得的前驱体浆料泵入到高压反应釜中,加入等质量的去离子水后加入一定量的聚乙二醇(400~2000)和氢氟酸并搅拌均匀,其中聚乙二醇(400~2000)的浓度为0.5mol/L,氢氟酸的浓度为0.02mol/L,然后对高压反应釜中的混合物在150℃下溶剂热处理4h,期间通控制反应釜中压力维持在1MPa;溶剂热处理后通过离心方式对悬浊液进行固液分离,固体部分依次用去离子水和无水乙醇洗涤后在80℃下烘干5h,最后在550℃下焙烧6h后得到平均粒径为30nm的二氧化硅粉体材料。
[0029] 实施例4:配制正硅酸乙酯浓度为1.8mol/L、十二烷基苯磺酸钠浓度为0.25mol/L的乙醇溶液作为溶液A;将氨水滴加到去离子水和无水乙醇的混合液后加入十六烷基三甲基溴化铵搅拌均匀得到溶液B,其中氨水在溶液B中的浓度为0.5mol/L,十六烷基三甲基溴化铵浓度为
0.25mol/L,去离子水与乙醇的体积比为3:1;开启超重力微反应装置,调节微反应盘的转速至2000rpm,填料层的转速至1500rpm,其中微反应通道尺寸为0.5mm;将溶液A和溶液B以1:4的比例泵入到超重力微反应装置中,同时控制反应温度为35℃;将反应所得的前驱体浆料泵入到高压反应釜中,加入等质量的去离子水后加入一定量的聚乙烯吡咯烷酮和稀硫酸并搅拌均匀,其中聚乙烯吡咯烷酮的浓度为0.8mol/L,盐酸的浓度为0.1mol/L,然后对高压反应釜中的混合物在150℃下溶剂热处理4h,期间通控制反应釜中压力维持在1MPa;溶剂热处理后通过离心方式对悬浊液进行固液分离,固体部分依次用去离子水和无水乙醇洗涤后在
80℃下烘干5h,最后在550℃下焙烧6h后得到粒径分布为10~25nm的二氧化硅粉体材料。
[0030] 实施例5重复实施例4,不同的是表面活性剂为十二烷基硫酸钠、十六烷基磺酸钠、硬脂酸、壬基酚聚氧乙烯醚、月桂醇聚氧乙烯醚、月桂酸甘油酯、月桂基硫酸钠中的一种或多种,分散剂为乙二醇、丙三醇、聚乙烯醇中的一种或多种,矿化剂为硝酸、磷酸、亚磷酸、甲酸、乙酸、草酸、酒石酸、氟化钠、氟化钾、氟化铵中的一种或多种,得到的结果与实施例4一致。
[0031] 实施例6重复实施例1,不同的是沉淀剂为硝酸铵,表面活性剂为月桂醇聚氧乙烯醚、月桂酸甘油酯、月桂基硫酸钠中的一种或多种,分散剂为乙二醇和丙三醇的混合物,矿化剂为盐酸与氟化钠摩尔比例为1:1的混合物,微反应通道尺寸为0.1~0.5mm,调节反应盘的转速至
1500rpm,填料层的转速至1500rpm,得到的结果与实施例4一致。
[0032] 实施例7重复实施例2,不同的是微反应通道尺寸为1mm,调节反应盘的转速至1200rpm,填料层的转速至800rpm,得到的结果与实施例3一致。

附图说明

[0021] 附图是用来提供对被发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本发明,但并不构成对本发明的限制。
[0022] 图1是本发明所述超重力微反应装置的结构示意图;图2是本发明所述超重力微反应装置的另一种结构示意图;
图3是联动装置的结构示意图;
图4是联动装置的俯视图;
图5是锥齿轮联动装置的结构示意图;
图6是对图1中微反应盘的结构示意图;
图7是对图6的展开示意图;
图8是对图1中微反应盘上盘部分的俯视图;
图9是对图1中微反应盘下盘部分的示意图,微反应通道呈直线型放射状分布;
图10是对图1中微反应盘下盘部分的示意图,微反应通道呈弧型放射状分布;
图11是对图1中A部分的示意图;
图12是对图11沿A'-A'的剖视图;
图13是对图11沿B'-B'的剖视图;
图14是对图11沿C'-C'的剖视图;
图15是对图11沿D'-D'的剖视图;
图16是对图2中进样轴、雾化盘及微反应盘的结构示意图;
图17是图2中雾化盘底面微反应凹槽分布图;
图18是图2中微反应盘顶面微反应凹槽分布图,呈蜂窝装分布;
图19是图2中微反应盘顶面微反应凹槽分布图,雾化盘投影部分呈蜂窝状分布,投影部分之外呈直线型放射状分布;
图20是图2中微反应盘顶面微反应凹槽分布图,雾化盘投影部分呈蜂窝状分布,投影部分之外呈弧型放射状分布。
[0023] 附图标记说明11 外壳,12 顶板,13 底座,14 第一隔板隔板,15 第二隔板隔板,16 第三隔板隔板,
17 固定件,18 出样口;
21 转鼓,22 填料层,23 微反应盘,23-1 上盘,23-2 下盘,23-3 混料腔,23-4 挡板,
23-5微反应通道,23-6 圆孔,23-7 台面,23-8 柱形凹槽,23-9 螺栓,23-10 微反应凹槽;
31 进样轴,31-1柱状凸起,31-2 雾化盘,32 进样口,33 环形进料腔,34 进样管,35 进样孔道;
41 第一传动轴,42 第二传动轴,43 第三传动轴,44 1#固定底座,45 2#固定底座,46 
3#固定底座,47 电机;
51 第一轴承,52 第二轴承,53 第三轴承,54 第四轴承,55 密封圈;
61 联动装置,61-1 内齿圈,61-2 1#齿轮,61-3 2#齿轮,61-4 固定架,61-5 固定轴,
62 锥齿轮联动装置,62-1 1#锥齿轮,62-2 2#锥齿轮。
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