发明内容
[0005] 为了弥补现有技术的不足，本发明提出的一种半导体二极管酸洗处理系统，摆动模块的第一滑块在离心力的作用下向外滑动挤压到不同长度的导柱，使得支撑盘的倾斜程度不同，通过周期性的控制电机转速的快慢，支撑盘转动的同时并摆动，增加酸洗液的流动，提高半导体二极管酸洗的效率。
[0006] 本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：本发明所述的一种半导体二极管酸洗处理系统，包括箱体，酸洗箱和摆动模块；所述箱体内部设有摆动模块，所述酸洗箱安装在摆动模块上，摆动模块晃动用于提高酸洗液的流动；所述酸洗箱用于放置半导体二极管；
[0007] 所述的摆动模块包括转盘、第一滑块、支撑盘、伸缩杆和导柱；所述箱体底部设置电机；所述电机的转轴上固连着转盘；所述转盘顶部设有向一侧开设的滑槽，所述第一滑块通过弹簧安装在转盘的滑槽内；所述支撑盘通过一组并联伸缩杆安装在转盘上；所述支撑盘顶部设有酸洗箱；所述支撑盘底部设有一组导柱；所述导柱用于配合第一滑块使用；所述第一滑块顶部设有圆弧凸起；沿第一滑块移动路径上的导柱长度依次增加。工作时，通过控制电机的转速不同，第一滑块在离心力的作用下向外滑动的距离不同，相应的挤压到不同长度的导柱，使得支撑盘的倾斜程度不同，通过周期性的控制电机转速的快慢，支撑盘转动的同时并摆动，增加酸洗液的流动，提高半导体二极管酸洗的效率。
[0008] 优选的，所述第一滑块顶部设有凹槽；凹槽侧边设有一组转动杆；所述转动杆的中部转动安装在凹槽侧边上，所述转动杆的转轴内设有扭簧。工作时，第一滑块移动挤压到导柱，通过设置一组转动杆，一方面减轻第一滑块对导柱的冲击，另一方面导柱挤压并使转动杆摆动，转动杆对酸洗液进行搅拌，增加酸洗液的流动。
[0009] 优选的，所述支撑盘外圈设有一组搅动模块；所述搅动模块包括安装板、第二滑块、连接板、导向轮和牵引绳；所述安装板固连在支撑盘外圈；所述第二滑块通过弹簧安装在安装板的滑槽内；所述连接板上设置导向轮；两个连接板的端头底部通过转轴相连；其中一块连接板的端头底部转动安装在安装板端头的底部；最外侧的一块连接板端头固连着牵引绳；所述牵引绳通过导向轮并固连在第二滑块一侧。工作时，随着支撑盘旋转，第二滑块在离心力的作用下向支撑盘外侧滑动，通过控制电机转速的不同，第二滑块一侧设置牵引绳拽拉最外侧的连接板，相邻的两个连接板相对转动，对酸洗液进行搅拌，增加酸洗液的流动。
[0010] 优选的，所述连接板上设有对称安装在连接板一侧的支撑杆；所述支撑杆一端通过斜块滑动安装在连接板设置的斜槽内；所述支撑杆另一端转动安装着副轮，支撑杆沿斜槽滑动用于间歇支撑起牵引绳。工作时，由于牵引绳一直在导向轮是摩擦，且牵引绳在导向轮上的接触位置不变，这就使得导向轮的局部磨损较大，通过在连接板一侧的支撑杆，在第二滑块牵引转动板摆动时，支撑杆沿连接板上设置的斜槽滑动，副轮将牵引绳支撑并脱离导向轮，通过间歇性的支起和放下，均衡导向轮外圈的磨损。
[0011] 优选的，两个连接板之间滑动安装着扇形块；扇形块的横截面设成V型，所述连接板端头设置V型槽，V型槽用于安装扇形块；所述扇形块包括第一扇形板和第二扇形板，所述第一扇形板和第二扇形板的一端转动安装在滑动轴上，所述滑动轴通过弹簧安装在两个连接板之间的转轴上；所述第一扇形板和第二扇形板的另一端通过弹簧相连。工作时，在第二滑块的牵引作用下两个转动板相对转动，挤压扇形块并使扇形块沿连接板端头设置V型槽向外滑动，滑动的同时，第一扇形板和第二扇形板的端头在弹簧的作用下张开，对酸洗液进行搅动，增加酸洗液的流动，提高酸洗效率。
[0012] 本发明的有益效果如下：
[0013] 1.本发明通过设置摆动模块，摆动模块的第一滑块在离心力的作用下向外滑动挤压到不同长度的导柱，使得支撑盘的倾斜程度不同，通过周期性的控制电机转速的快慢，支撑盘转动的同时并摆动，增加酸洗液的流动，提高半导体二极管酸洗的效率。
[0014] 2.本发明通过设置一组转动杆，一方面减轻第一滑块对导柱的冲击，另一方面导柱挤压并使转动杆摆动，转动杆对酸洗液进行搅拌，增加酸洗液的流动，提高半导体二极管酸洗的效率。
[0015] 3.本发明通过在两个连接板之间设置扇形块，相邻的两个连接板相对转动，挤压扇形块并使扇形块沿连接板端头设置V型槽向外滑动，滑动的同时，第一扇形板和第二扇形板的端头在弹簧的作用下张开，对酸洗液进行搅动，增加酸洗液的流动，提高酸洗效率。
