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超结金属氧化物场效应晶体管   0    0

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专利申请流程有哪些步骤?
专利申请流程图
申请
申请号:指国家知识产权局受理一件专利申请时给予该专利申请的一个标示号码。唯一性原则。
申请日:提出专利申请之日。
2017-12-13
申请公布
申请公布指发明专利申请经初步审查合格后,自申请日(或优先权日)起18个月期满时的公布或根据申请人的请求提前进行的公布。
申请公布号:专利申请过程中,在尚未取得专利授权之前,国家专利局《专利公报》公开专利时的编号。
申请公布日:申请公开的日期,即在专利公报上予以公开的日期。
2018-06-26
授权
授权指对发明专利申请经实质审查没有发现驳回理由,授予发明专利权;或对实用新型或外观设计专利申请经初步审查没有发现驳回理由,授予实用新型专利权或外观设计专利权。
2021-11-05
预估到期
发明专利权的期限为二十年,实用新型专利权期限为十年,外观设计专利权期限为十五年,均自申请日起计算。专利届满后法律终止保护。
2037-12-13
基本信息
有效性 有效专利 专利类型 发明专利
申请号 CN201711328190.X 申请日 2017-12-13
公开/公告号 CN108110057B 公开/公告日 2021-11-05
授权日 2021-11-05 预估到期日 2037-12-13
申请年 2017年 公开/公告年 2021年
缴费截止日
分类号 H01L29/78H01L29/06 主分类号 H01L29/78
是否联合申请 独立申请 文献类型号 B
独权数量 1 从权数量 1
权利要求数量 2 非专利引证数量 0
引用专利数量 3 被引证专利数量 0
非专利引证
引用专利 CN101510561A、CN104009072A、JP特开2002-76017A 被引证专利
专利权维持 4 专利申请国编码 CN
专利事件 转让 事务标签 公开、实质审查、授权、权利转移
申请人信息
申请人 第一申请人
专利权人 深圳市晶特智造科技有限公司 当前专利权人 深圳市鸿光盛业电子有限公司
发明人 不公告发明人 第一发明人 不公告发明人
地址 广东省深圳市宝安区福永街道和平社区骏丰工业区A3栋一楼 邮编 518000
申请人数量 1 发明人数量 1
申请人所在省 广东省 申请人所在市 广东省深圳市
代理人信息
代理机构
专利代理机构是经省专利管理局审核,国家知识产权局批准设立,可以接受委托人的委托,在委托权限范围内以委托人的名义办理专利申请或其他专利事务的服务机构。
深圳峰诚志合知识产权代理有限公司 代理人
专利代理师是代理他人进行专利申请和办理其他专利事务,取得一定资格的人。
李明香
摘要
本发明提供一种超结金属氧化物场效应晶体管。所述晶体管划分为有源区域及位于有源区域外围的耐压区域,所述耐压区域划分邻近所述有源区域的过渡区域及位于所述过渡区域外围的终端区域,所述晶体管还包括N型衬底、位于所述N型衬底上的N型外延层、位于所述耐压区域的N型外延层表面的P型掺杂结、位于所述过渡区域的N型外延层中的连接所述P型掺杂结底部且朝向所述N型衬底延伸的第一P型掺杂区、位于所述终端区域的P型掺杂结下方的N型外延层中的沿着平行于所述N型衬底的方向延伸的第二P型掺杂区。
  • 摘要附图
    超结金属氧化物场效应晶体管
  • 说明书附图:图1
    超结金属氧化物场效应晶体管
法律状态
序号 法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
1 2022-09-02 专利权的转移 登记生效日: 2022.08.23 专利权人由深圳市晶特智造科技有限公司变更为深圳市鸿光盛业电子有限公司 地址由518000 广东省深圳市宝安区福永街道和平社区骏丰工业区A3栋一楼变更为518000 广东省深圳市龙华区民治街道新牛社区民治大道与工业东路交汇处展滔科技大厦B座B2301
2 2021-11-05 授权
3 2018-06-26 实质审查的生效 IPC(主分类): H01L 29/78 专利申请号: 201711328190.X 申请日: 2017.12.13
4 2018-06-01 公开
权利要求
权利要求书是申请文件最核心的部分,是申请人向国家申请保护他的发明创造及划定保护范围的文件。
1.一种超结金属氧化物晶体管,其特征在于:所述晶体管划分为有源区域及位于有源区域外围的耐压区域,所述耐压区域划分邻近所述有源区域的过渡区域及位于所述过渡区域外围的终端区域,所述晶体管还包括N型衬底、位于所述N型衬底上的N型外延层、位于所述耐压区域的N型外延层表面的P型掺杂结、位于所述过渡区域的N型外延层中的连接所述P型掺杂结底部且朝向所述N型衬底延伸的第一P型掺杂区、位于所述终端区域的P型掺杂结下方的N型外延层中的沿着平行于所述N型衬底的方向延伸的第二P型掺杂区;所述第一P型掺杂区的数量为多个,所述多个第一P型掺杂区均连接所述P型掺杂结;所述第二P型掺杂区的数量为多个,所述多个第二P型掺杂区均沿平行于所述N型衬底的方向延伸,且所述多个第二P型掺杂区的延伸长度沿着远离所述P型掺杂结的方向逐渐减小;所述多个第一P型掺杂区中,相邻两个第一P型掺杂区的间距沿远离所述有源区域的方向逐渐增大;所述有源区域包括第三P型掺杂区,邻近所述有源区域的第一P型掺杂区的P型离子浓度大于所述第三P型掺杂区的P型离子浓度;所述晶体管还包括设置于所述P型掺杂结上方的厚氧层,所述厚氧层从所述耐压区域远离所述有源区域的边缘延伸至所述过渡区域的邻近所述有源区域的第一P型掺杂区域的靠近所述终端区域的一侧边缘;所述多个第一P型掺杂区的P型离子浓度沿着远离所述有源区域的方向逐渐减小;所述多个第二P型掺杂区中延伸长度最长的第二P型掺杂区的P型离子的浓度小于所述多个第一P型掺杂区中的P型离子浓度最小的第一P型掺杂区的P型离子浓度;所述多个第二P型掺杂区的P型离子浓度沿着远离所述P型掺杂结的方向逐渐降低,且所述多个第二P型掺杂区中,相邻两个第二P型掺杂区的间距沿着远离所述P型掺杂结的方向逐渐增大。

2.如权利要求1所述的超结金属氧化物晶体管,其特征在于:所述多个第二P型掺杂区的P型离子浓度相等,且所述多个第二P型掺杂区中,任意相邻两个第二P型掺杂区的间距相等。
说明书
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