[0025] 以下具体实施例是对本发明提供的方法与技术方案的进一步说明,但不应理解成对本发明的限制。
[0026] 实施例1
[0027] (1)将SrCO3、TiO2和ZrO2原料粉末(纯度99.99%)分别按Sr2(Ti0.975Zr0.025)O4化学计量比称量配料;
[0028] (2)将步骤(1)配制好的化学原料放入球磨罐,加入氧化锆球和无水乙醇球磨24小时,将球磨后的粉料在干燥箱中烘干后过120目筛;
[0029] (3)将步骤(2)制得的粉末在1225℃煅烧3小时后进行二次球磨,烘干后过120目筛;
[0030] (4)在步骤(3)制得的粉末中加入4wt%的PVA溶液并研磨均匀,过40目筛;随后,将所得粉体放入直径为12mm的不锈钢模具中,在98MPa压力下保压5min,得到厚度为5mm的陶瓷生坯。将所得陶瓷生坯在1475℃-1550℃下烧结3h最终得到陶瓷样品。烧结工艺的升温速度为5℃/min,烧结结束后控制程序以2℃/min的速度降至1100℃,然后随炉冷却到室温,得到的微波介质陶瓷的XRD图参见图1。
[0031] 实施例2
[0032] (1)将SrCO3、TiO2和ZrO2原料粉末(纯度99.99%)分别按Sr2(Ti0.95Zr0.05)O4化学计量比称量配料;
[0033] (2)将步骤(1)配制好的化学原料放入球磨罐,加入氧化锆球和无水乙醇球磨24小时,将球磨后的粉料在干燥箱中烘干后过120目筛;
[0034] (3)将步骤(2)制得的粉末在1250℃煅烧3小时后进行二次球磨,烘干后过120目筛;
[0035] (4)在步骤(3)制得的粉末中加入4wt%的PVA溶液并研磨均匀,过40目筛;随后,将所得粉体放入直径为12mm的不锈钢模具中,在98MPa压力下保压5min,得到厚度为5mm的陶瓷生坯。将所得陶瓷生坯在1475℃-1550℃下烧结3h最终得到陶瓷样品。烧结工艺的升温速度为5℃/min,烧结结束后控制程序以2℃/min的速度降至1100℃,然后随炉冷却到室温,得到的微波介质陶瓷的XRD图参见图1。
[0036] 实施例3
[0037] (1)将SrCO3、TiO2和ZrO2原料粉末(纯度99.99%)分别按Sr2(Ti0.9Zr0.1)O4化学计量比称量配料;
[0038] (2)将步骤(1)配制好的化学原料放入球磨罐,加入氧化锆球和无水乙醇球磨24小时,将球磨后的粉料在干燥箱中烘干后过120目筛;
[0039] (3)将步骤(2)制得的粉末在1250℃煅烧3小时后进行二次球磨,烘干后过120目筛;
[0040] (4)在步骤(3)制得的粉末中加入4wt%的PVA溶液并研磨均匀,过40目筛;随后,将所得粉体放入直径为12mm的不锈钢模具中,在98MPa压力下保压5min,得到厚度为5mm的陶瓷生坯。将所得陶瓷生坯在1475℃-1550℃下烧结3h最终得到陶瓷样品。烧结工艺的升温速度为5℃/min,烧结结束后控制程序以2℃/min的速度降至1100℃,然后随炉冷却到室温,得到的微波介质陶瓷的XRD图参见图1。
[0041] 对比例1
[0042] (1)将SrCO3和TiO2原料粉末(纯度99.99%)分别按Sr2TiO4化学计量比称量配料;
[0043] (2)将步骤(1)配制好的化学原料放入球磨罐,加入氧化锆球和无水乙醇球磨24小时,将球磨后的粉料在干燥箱中烘干后过120目筛;
[0044] (3)将步骤(2)制得的粉末在1200℃煅烧3小时后进行二次球磨,烘干后过120目筛;
[0045] (4)在步骤(3)制得的粉末中加入4wt%的PVA溶液并研磨均匀,过40目筛;随后,将所得粉体放入直径为12mm的不锈钢模具中,在98MPa压力下保压5min,得到厚度为5mm的陶瓷生坯。将所得陶瓷生坯在1475℃-1550℃下烧结3h最终得到陶瓷样品。烧结工艺的升温速度为5℃/min,烧结结束后控制程序以2℃/min的速度降至1100℃,然后随炉冷却到室温,得到的微波介质陶瓷的XRD图参见图1。
[0046] 将实施例1~3和对比例1制备得到的圆柱形电介质陶瓷表面喷上金后用扫描电子显微镜观察样品表面和断面晶粒尺寸和微观形貌,参见图2。观察结束后利用金相砂纸对样品表面进行磨削抛光,直至肉眼不能观察到明显划痕。样品超声震荡清洗后采用网络分析仪分别测试样品的介电常数和Qf值,所得性能随烧结温度变化的图参见图3,4。
[0047] 表1
[0048]
[0049] 表1示出了利用本发明的制备方法制得的Sr2TiO4(对比例)和Sr2(Ti1-xZrx)O4(实施例)陶瓷的最优εr和Qf值。
[0050] 由表1可知,在Sr2TiO4陶瓷中通过Zr离子置换Ti离子能够显著地影响其微波介电性能,且Sr2(Ti0.975Zr0.025)O4成分介电性能明显优于对比例中纯Sr2TiO4陶瓷,其最优εr为42.6,最优Qf值为160000GHz。
[0051] 以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明方法及其核心思想。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以对本发明进行若干改进和修饰,这些改进和修饰也落入本发明权利要求保护范围内。