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一种掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列及其制备方法和应用   0    0

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专利申请流程有哪些步骤?
专利申请流程图
申请
申请号:指国家知识产权局受理一件专利申请时给予该专利申请的一个标示号码。唯一性原则。
申请日:提出专利申请之日。
2019-07-08
申请公布
申请公布指发明专利申请经初步审查合格后,自申请日(或优先权日)起18个月期满时的公布或根据申请人的请求提前进行的公布。
申请公布号:专利申请过程中,在尚未取得专利授权之前,国家专利局《专利公报》公开专利时的编号。
申请公布日:申请公开的日期,即在专利公报上予以公开的日期。
2019-10-08
授权
授权指对发明专利申请经实质审查没有发现驳回理由,授予发明专利权;或对实用新型或外观设计专利申请经初步审查没有发现驳回理由,授予实用新型专利权或外观设计专利权。
2020-03-31
预估到期
发明专利权的期限为二十年,实用新型专利权期限为十年,外观设计专利权期限为十五年,均自申请日起计算。专利届满后法律终止保护。
2039-07-08
基本信息
有效性 有效专利 专利类型 发明专利
申请号 CN201910610294.2 申请日 2019-07-08
公开/公告号 CN110201692B 公开/公告日 2020-03-31
授权日 2020-03-31 预估到期日 2039-07-08
申请年 2019年 公开/公告年 2020年
缴费截止日
分类号 B01J27/20B01J27/24B01J27/16B01J35/10C25B11/06C25B1/04 主分类号 B01J27/20
是否联合申请 独立申请 文献类型号 B
独权数量 1 从权数量 9
权利要求数量 10 非专利引证数量 1
引用专利数量 5 被引证专利数量 0
非专利引证 1、Zhenyu Zhang et al..VerticallyAligned Graphene Nanosheet Arrays:Synthesis,Properties and Applications inElectrochemical Energy Conversion andStorage《.Adv. Energy Mater.》.2017,第7卷1700678. Lianlian Chen et al..Fabrication ofvertically aligned graphene sheets on SiCsubstrates《.RSC Adv.》.2013,第3卷13926–13933.;
引用专利 CN108538641A、CN106044754A、CN106629678A、CN106334501A、CN107235472A 被引证专利
专利权维持 3 专利申请国编码 CN
专利事件 事务标签 公开、实质审查、授权
申请人信息
申请人 第一申请人
专利权人 西北大学 当前专利权人 西北大学
发明人 姜彬、梁珂朋、杨祖进 第一发明人 姜彬
地址 陕西省西安市太白北路229号 邮编 710069
申请人数量 1 发明人数量 3
申请人所在省 陕西省 申请人所在市 陕西省西安市
代理人信息
代理机构
专利代理机构是经省专利管理局审核,国家知识产权局批准设立,可以接受委托人的委托,在委托权限范围内以委托人的名义办理专利申请或其他专利事务的服务机构。
西安通大专利代理有限责任公司 代理人
专利代理师是代理他人进行专利申请和办理其他专利事务,取得一定资格的人。
李红霖
摘要
本发明公开了一种掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列及其制备方法和应用;此方法一步掺杂、垂直、还原制备的掺杂石墨烯垂直有序阵列,具有价廉易得、高效稳定、可大规模生产的产品特性,通过该制备方法制备出的该墨烯为三维有序阵列的石墨烯,石墨烯内掺杂有杂原子;因为掺杂有杂原子,使得制备出来的材料微观上具有大比表面积和多孔隙率的特点;三维阵列石墨烯本身具有高度有序排列的特点;该材料表现出来的导电性好、机械性能优异,催化活性高,在HER领域有着广阔的应用前景。
  • 摘要附图
    一种掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列及其制备方法和应用
  • 说明书附图:图1
    一种掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列及其制备方法和应用
  • 说明书附图:图2
    一种掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列及其制备方法和应用
  • 说明书附图:图3
    一种掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列及其制备方法和应用
  • 说明书附图:图4
    一种掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列及其制备方法和应用
  • 说明书附图:图5
    一种掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列及其制备方法和应用
  • 说明书附图:图6
    一种掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列及其制备方法和应用
  • 说明书附图:图7
    一种掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列及其制备方法和应用
  • 说明书附图:图8
    一种掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列及其制备方法和应用
  • 说明书附图:图9
    一种掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列及其制备方法和应用
法律状态
序号 法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
1 2020-03-31 授权
2 2019-10-08 实质审查的生效 IPC(主分类): B01J 27/20 专利申请号: 201910610294.2 申请日: 2019.07.08
3 2019-09-06 公开
权利要求
权利要求书是申请文件最核心的部分,是申请人向国家申请保护他的发明创造及划定保护范围的文件。
1.一种掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列的制备方法,其特征在于,将防冻剂、掺杂剂和氧化石墨烯分散液形成的混合溶液置于 容器中,将容器置于 铜盘上冷冻干燥,得到氧化石墨烯气凝胶;将氧化石墨烯气凝胶经过热还原后得到掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列;所述掺杂剂为硼酸、植酸或尿素。

2.根据权利要求1所述的一种掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列的制备方法,其特征在于,防冻剂为甲醇或乙醇,防冻剂和石墨烯分散液的体积比为(0.1-0.3):(5-20)。

3.根据权利要求1所述的一种掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列的制备方法,其特征在于,当掺杂剂为硼酸时,硼酸和氧化石墨烯分散液的比例为(60-300)mg:(5-20)mL;当掺杂剂为尿素时,尿素和氧化石墨烯分散液的比例为(60-180)mg:(5-20)mL;当掺杂剂为植酸时,植酸和氧化石墨烯分散液的体积比为(1-5)μL:(5-20)mL。

4.根据权利要求1所述的一种掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列的制备方法,其特征在于,冷冻时间为24-72h;热还原分为两阶段,第一阶段的热还原温度小于第二阶段的热还原温度。

5.根据权利要求4所述的一种掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列的制备方法,其特征在于,当掺杂剂为硼酸时,热还原第一阶段温度为150-200℃,持续时间为1.5-2h;热还原第二阶段温度为800-1000℃,持续时间为2-4h。

6.根据权利要求4所述的一种掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列的制备方法,其特征在于,当掺杂剂为尿素时,热还原第一阶段温度为150-200℃,持续时间为1-2h;热还原第二阶段温度为700-1000℃,持续时间为2-3h。

7.根据权利要求4所述的一种掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列的制备方法,其特征在于,当掺杂剂为植酸时,热还原第一阶段温度为200-300℃,持续时间为2h;热还原第二阶段温度为800-1000℃,持续时间为3h。

8.一种通过权利要求1-7任意一项制备方法制得的掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列,其特征在于,所述掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列为垂直有序多孔结构,孔径为
20-30μm,石墨烯的片层厚度20-50nm。

9.根据权利要求8所述的一种掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列,其特征在于,所述杂原子包括氮、硼、磷中的至少一种。

10.一种权利要求8所述的掺杂有杂原子的石墨烯垂直有序阵列在电催化析氢中的应用,其特征在于,所述石墨烯垂直有序阵列作为工作电极。
说明书
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