[0054] 本发明提供一种激光清洗系统，如图1至3所示，包括：连接机构11，控制终端6，光谱仪5以及第一激光探头3；
[0055] 连接机构11上设有第一调Q激光器1以及激光清洗头7；光谱仪5，第一调Q激光器1以及激光清洗头7分别与控制终端6通信连接；光谱仪5与第一激光探头3通信连接；控制终端6控制第一调Q激光器1向清洗样品12上投射第一预设阈值的光谱量值，光谱仪5通过第一激光探头3收集第一调Q激光器1投射在清洗样品12上的光谱信息，并将所述光谱信息传送至控制终端6；控制终端分析清洗样品的待清洗样品上的涂层的厚度和各类元素的比例，将待清洗样品上的涂层的厚度和各类元素比例对应与已存好的数据进行比较，判断涂层厚度及涂层种类，根据判断结果预设输出激光的参数：激光清洗头射出预设能量强度的一束激光，把待清洗样品上的涂层从清洗样品表面去除，以实现清洗效果。
[0056] 预设输出激光参数包括：功率、脉冲能量、速度、光斑直径、脉冲宽度等。
[0057] 进一步本发明还包括：第二激光探头9；连接机构11上还设有第二调Q激光器8；第二调Q激光器8与控制终端6通信连接；光谱仪5与第二激光探头9通信连接；
[0058] 控制终端6还用于待完成一次清洗后，控制终端6控制第二调Q激光器8向清洗样品12上投射第二预设阈值的光谱量值，光谱仪5通过第二激光探头9收集第二调Q激光器8投射在清洗样品12上的光谱信息，并将所述光谱信息传送至控制终端6；
[0059] 控制终端再次分析清洗样品的待清洗样品上的涂层的厚度和各类元素的比例，将待清洗样品上的涂层的厚度和各类元素比例对应与已存好的数据进行比较判断是否满足预设参数阈值，如满足预设参数阈值，停止清洗；如不满足预设参数阈值，根据判断结果预设输出激光的参数，激光清洗头再次射出预设能量强度的一束激光，把待清洗样品上的涂层从清洗样品表面去除；循环上述进程直至满足预设参数阈值，以实现清洗效果。
[0060] 这样控制终端6可以交替设置第一调Q激光器1和第二调Q激光器8向清洗样品12上投射第一预设阈值的光谱量值，满足当前的检测需求，能够动态调节第一调Q激光器1和第二调Q激光器8输出的光谱量值。
[0061] 连接机构11上还设有驱动第一调Q激光器1在连接机构11上移动的第一激光器移动机构；连接机构11上还设有驱动第二调Q激光器8在连接机构11上移动的第二激光器移动机构。
[0062] 本发明还可以实现第一调Q激光器1，第二调Q激光器8以及激光清洗头7分别可以在连接机构11上移动。移动方式可以为升降，水平移动等等，调节位置角度。第一调Q激光器1和第二调Q激光器8可以实现同时同步的动态检测清洗样品表面杂质情况。也可实现第一调Q激光器1或第二调Q激光器8单一的动态检测清洗样品表面杂质情况。也可以实现基于一个范围的监测，即第一调Q激光器1检测一个范围，第二调Q激光器8检测一个范围，在检测范围内出现超阈值情况，均做清除处理。
[0063] 本发明中的调Q激光器基于Q开关技术，是将一般输出的连续 激光能量压缩到宽度极窄的脉冲中发射，从而使光 源的峰值功率可提高几个数量级的一种技术。
[0064] 而光谱仪以光电倍增管等光探测器测量谱线不同波长位置强度的装置。它由一个入射狭缝，一个色散系统，一个成像系统和一个或多个出射狭缝组成。以色散元件将辐射源的电磁辐射分离出所需要的波长或波长区域，并在选定的波长上或扫描某一波段进行强度测定。这样光谱仪可以给控制终端6提供相应的参数数据信息。
[0065] 控制终端6例如可以作为处理器或者集成电路装置，诸如集成电路芯片或芯片组。可替换地或附加地，如果软件或固件中实现，所述技术可实现至少部分地由计算机可读的数据存储介质，包括指令，当执行时，使处理器执行一个或更多的上述方法。例如，计算机可读的数据存储介质可以存储诸如由处理器执行的指令。
[0066] 所述代码或指令可以是软件和/或固件由处理电路包括一个或多个处理器执行，如一个或多个数字信号处理器(DSP)，通用微处理器，特定应用集成电路ASICs，现场可编程门阵列(FPGA)，或者其它等价物把集成电路或离散逻辑电路。因此，术语“处理器，”由于在用于本文时可以指任何前述结构或任何其它的结构更适于实现的这里所描述的技术。另外，在一些方面，本公开中所描述的功能可以提供在软件模块和硬件模块。
[0067] 控制终端6设有数据库；数据库用于储存控制终端6接收的数据信息以及各类数据的预设阈值信息。
[0068] 数据库作为计算机可读介质的计算机程序产品可以形成一部分，其可以包括包装材料。数据的计算机可读介质可以包括计算机存储介质，诸如随机存取存储器(RAM)，只读存储器(ROM)，非易失性随机存取存储器(NVRAM)，电可擦可编程只读存储器(EEPROM)，闪存，磁或光学数据存储介质，和类似物。在一些实施例中，一种制造产品可包括一个或多个计算机可读存储媒体。
[0069] 这样，本发明激光诱导击穿光谱技术作为检查技术的超新星，基本可以满足上述需求。利用高能激光脉冲作用于物体表面，烧蚀气化表面微量样品，形成超高温等离子体，向外有效发射跃迁光谱，由于每种元素有其专属的发射光谱“指纹”，通过分析采集的发射光谱信息来定性和定量样品元素。该技术不需要对样品进行预处理，对样品表面损伤小，能够实现在线非接触检测，其检测速度快。由于激光清洗同样需要高能激光脉冲，故二者能够完美匹配，不需要增加太多额外设备，就能实现对样品的在线实时测量。
[0070] 本发明还包括：第一传输光纤4和第二传输光纤10；第一激光探头3通过第一传输光纤4与光谱仪5通信连接；第二激光探头9通过第二传输光纤10与光谱仪5通信连接；或，第一激光探头3和第二激光探头9分别通过无线通信方式与光谱仪5通信连接。
[0071] 本发明中，连接机构11包括：基座21，基座21上连接有两根平行设置的立柱22，两根平行设置立柱22之间连接有水平横梁23；水平横梁23上设有水平传动机构，水平传动机构上连接有升降吊杆24，升降吊杆24设有升降传动机构，激光清洗头7与升降传动机构移动连接；水平横梁23设有水平驱动电机26；升降吊杆24设有升降驱动电机25；控制终端6通过控制水平驱动电机26运行，使升降吊杆24沿着水平传动机构水平移动；控制终端6通过控制升降驱动电机25运行，使激光清洗头7沿着升降传动机构升降移动。
[0072] 水平传动机构采用齿轮齿条传动，或链传动，或带传动；升降传动机构采用齿轮齿条传动，或链传动，或带传动。
[0073] 基座21上设有基座滑轨27；两根立柱22的底部分别设有立柱驱动电机以及立柱行走轮；控制终端6通过控制立柱驱动电机运行，使两根立柱22通过立柱行走轮与基座滑轨27配合，同步沿着基座滑轨27移动；基座21上还设有清洗样品12安置位28。
[0074] 本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”“第四”等如果存在是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本发明的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。
[0075] 本发明还提供一种激光清洗方法，方法包括：
[0076] 控制终端接收激光清洗启动信息；
[0077] 控制终端控制第一调Q激光器向清洗样品上投射预设阈值的光谱量值，光谱仪通过第一激光探头收集第一调Q激光器投射在清洗样品上的光谱信息，并将所述光谱信息传送至控制终端；
[0078] 控制终端分析清洗样品的待清洗样品上的涂层的厚度和各类元素的比例，将待清洗样品上的涂层的厚度和各类元素比例对应与已存好的数据进行比较，判断涂层厚度及涂层种类，根据判断结果预设输出激光的参数：激光清洗头射出预设能量强度的一束激光，把待清洗样品上的涂层从清洗样品表面去除。
[0079] 待完成一次清洗后，控制终端控制第二调Q激光器向清洗样品上投射第二预设阈值的光谱量值，光谱仪通过第二激光探头收集第二调Q激光器投射在清洗样品上的光谱信息，并将所述光谱信息传送至控制终端；
[0080] 控制终端再次分析清洗样品的待清洗样品上的涂层的厚度和各类元素的比例，将待清洗样品上的涂层的厚度和各类元素比例对应与已存好的数据进行比较判断是否满足预设参数阈值，如满足预设参数阈值，停止清洗；
[0081] 如不满足预设参数阈值，根据判断结果预设输出激光的参数，激光清洗头再次射出预设能量强度的一束激光，把待清洗样品上的涂层从清洗样品表面去除；循环上述进程直至满足预设参数阈值。
[0082] 这里控制终端分析清洗样品的待清洗样品上的涂层的厚度和各类元素的比例，将待清洗样品上的涂层的厚度和各类元素比例对应与预设阈值进行比对；当待清洗样品上的涂层的厚度或各类元素比例超出预设阈值时，控制终端控制激光清洗头移动到第一调Q激光器所检测的位置区域，并配置激光清洗头输出的激光功率、脉冲能力以及通过水平驱动电机，升降驱动电机，立柱驱动电机调节激光清洗头位置，移动速度；控制终端控制激光清洗头射出预设能量强度的一束激光，把待清洗样品上的涂层从清洗样品表面去除，以实现清洗效果。
[0083] 激光清洗方法可以实现类似X轴运动、Y轴运动、Z轴运动的三维调节结构动态的调节第一调Q激光器1，第二调Q激光器8以及激光清洗头7位置，便于对清洗样品12表面杂质的检测和去除。
[0084] 能够分析不同样品材料和污染物种类进行激光清洗工艺调整，实现对样品的前期在线非接触实时检测以及后期清洗效果的实时分析。本发明将激光诱导击穿光谱技术和激光清洗技术相结合，能够有助于提高激光清洗效率，有利于推动激光清洗的信息化和智能化，具有重大的研究意义和经济价值。
[0085] 本发明中，第一调Q激光器1和第二调Q激光器8激光输出能量范围为50mJ-200mJ。从激光清洗头7出射的大功率激光功率从200W-1000W。
[0086] 对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
