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一种光学元件加工用材料及其制备方法   0    0

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专利申请流程有哪些步骤?
专利申请流程图
申请
申请号:指国家知识产权局受理一件专利申请时给予该专利申请的一个标示号码。唯一性原则。
申请日:提出专利申请之日。
2020-12-31
申请公布
申请公布指发明专利申请经初步审查合格后,自申请日(或优先权日)起18个月期满时的公布或根据申请人的请求提前进行的公布。
申请公布号:专利申请过程中,在尚未取得专利授权之前,国家专利局《专利公报》公开专利时的编号。
申请公布日:申请公开的日期,即在专利公报上予以公开的日期。
2021-05-07
授权
授权指对发明专利申请经实质审查没有发现驳回理由,授予发明专利权;或对实用新型或外观设计专利申请经初步审查没有发现驳回理由,授予实用新型专利权或外观设计专利权。
2022-05-17
预估到期
发明专利权的期限为二十年,实用新型专利权期限为十年,外观设计专利权期限为十五年,均自申请日起计算。专利届满后法律终止保护。
2040-12-31
基本信息
有效性 有效专利 专利类型 发明专利
申请号 CN202011625697.3 申请日 2020-12-31
公开/公告号 CN112680120B 公开/公告日 2022-05-17
授权日 2022-05-17 预估到期日 2040-12-31
申请年 2020年 公开/公告年 2022年
缴费截止日
分类号 C09J4/04C09J11/08C09J11/06C09J11/04 主分类号 C09J4/04
是否联合申请 独立申请 文献类型号 B
独权数量 1 从权数量 4
权利要求数量 5 非专利引证数量 0
引用专利数量 4 被引证专利数量 0
非专利引证
引用专利 CN1995252A、CN103694903A、CN108463525A、US5045397A 被引证专利
专利权维持 2 专利申请国编码 CN
专利事件 事务标签 公开、实质审查、授权
申请人信息
申请人 第一申请人
专利权人 杭州电子科技大学 当前专利权人 杭州电子科技大学
发明人 聂秋林 第一发明人 聂秋林
地址 浙江省杭州市下沙高教园区2号大街 邮编 310018
申请人数量 1 发明人数量 1
申请人所在省 浙江省 申请人所在市 浙江省杭州市
代理人信息
代理机构
专利代理机构是经省专利管理局审核,国家知识产权局批准设立,可以接受委托人的委托,在委托权限范围内以委托人的名义办理专利申请或其他专利事务的服务机构。
杭州君度专利代理事务所 代理人
专利代理师是代理他人进行专利申请和办理其他专利事务,取得一定资格的人。
朱亚冠
摘要
本发明公开一种光学元件加工用材料及其制备方法。本发明包括α‑氰基丙烯酸酯、乙酰柠檬酸三酯、磷酸三(2‑正丁氧乙基)酯、三羟甲基丙烷三(3‑巯基丙酸酯)、纤维素、气相二氧化硅、单宁酸、邻苯二甲酸酐。本发明采用了支链结构以及络合能力的溶剂,溶剂比例高,同时降低α‑氰基丙烯酸酯固化速度及固化应力,所得光学元件加工用材料具有粘度低、PV值小、粘结强度适当的特点,适合光学元件加工的粘结。
  • 摘要附图
    一种光学元件加工用材料及其制备方法
  • 说明书附图:[0006]
    一种光学元件加工用材料及其制备方法
  • 说明书附图:[0015]
    一种光学元件加工用材料及其制备方法
  • 说明书附图:[0028]
    一种光学元件加工用材料及其制备方法
  • 说明书附图:[0033]
    一种光学元件加工用材料及其制备方法
  • 说明书附图:[0034]
    一种光学元件加工用材料及其制备方法
  • 说明书附图:[0039]
    一种光学元件加工用材料及其制备方法
  • 说明书附图:[0042]
    一种光学元件加工用材料及其制备方法
  • 说明书附图:[0043]
    一种光学元件加工用材料及其制备方法
法律状态
序号 法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
1 2022-05-17 授权
2 2021-05-07 实质审查的生效 IPC(主分类): C09J 4/04 专利申请号: 202011625697.3 申请日: 2020.12.31
3 2021-04-20 公开
权利要求
权利要求书是申请文件最核心的部分,是申请人向国家申请保护他的发明创造及划定保护范围的文件。
1.一种光学元件加工用材料,其特征在于包括以下重量份数的原料:

2.根据权利要求1所述的一种光学元件加工用材料,其特征在于所述的α‑氰基丙烯酸酯为α‑氰基丙烯酸乙酯或α‑氰基丙烯酸甲氧基酯中一种。

3.根据权利要求1所述的一种光学元件加工用材料,其特征在于所述的乙酰柠檬酸三酯为乙酰柠檬酸三丁酯或乙酰柠檬酸三乙酯中的一种。

4.根据权利要求1所述的一种光学元件加工用材料,其特征在于所述的纤维素为醋酸纤维素或醋酸丁酸纤维素中的一种。

5.权利要求1‑4所述的一种光学元件加工用材料的制备方法,其特征在于将上述各组分按量依次加入到不锈钢反应釜中,加热65~75℃,氮气保护搅拌均匀后即得。
说明书

技术领域

[0001] 本发明属于光学精密加工技术领域,具体是一种光学元件加工用材料及其制备方法。

背景技术

[0002] 光学玻璃元件由于其具有的独特物理、化学性能,如高硬度、好的光学透明度、各种折射率、同质性好等特性,广泛应用于晶体管、集成电路、印刷线路板等半导体器件与投影仪、望远镜、光学显微镜等光学仪器。由于光学元件产品性能的需要,往往要对玻璃磨砂面进行严格的抛光加工,在抛光加工过程中需要将待加工的玻璃固定在不锈钢模具上。特别是一些高端的光学元件要求光学玻璃的镜面面形高精度,其PV值≤0.1λ。然而抛光加工过程中用胶粘剂粘结固定,由于收缩应力的产生导致光学玻璃镜面面形精度的PV值增大。故而需要一种保持光学玻璃镜面面形精度PV值≤0.1λ的胶粘剂。

发明内容

[0003] 本发明的目的是针对现有技术的不足,提供了一种光学元件加工用材料。
[0004] 本发明光学元件加工用材料的原料和配比(重量份数)如下:
[0005]
[0006] 所述的α‑氰基丙烯酸酯为α‑氰基丙烯酸乙酯或α‑氰基丙烯酸甲氧基酯中一种;
[0007] 所述的乙酰柠檬酸三酯为乙酰柠檬酸三丁酯或乙酰柠檬酸三乙酯中的一种;
[0008] 所述的纤维素为醋酸纤维素或醋酸丁酸纤维素中的一种。
[0009] 本发明还提供上述光学元件加工用材料的制备方法,该方法具体步骤如下:
[0010] 将上述各组分按量依次加入到不锈钢反应釜中,加热65~75℃,氮气保护搅拌均匀后即得到光学元件加工用材料。
[0011] 本发明采用了支链结构以及络合能力的溶剂,溶剂比例高,同时降低α‑氰基丙烯酸酯固化速度及固化应力,所得光学元件加工用材料具有粘度低、收缩应力小、粘结强度适当的特点,适合光学元件加工的粘结。

实施方案

[0012] 下面结合具体实施例对本发明做进一步说明。
[0013] 本发明光学元件加工用材料的原料和配比(重量份数)如下:
[0014]
[0015] 所述的α‑氰基丙烯酸酯为α‑氰基丙烯酸乙酯或α‑氰基丙烯酸甲氧基酯中一种;
[0016] 所述的乙酰柠檬酸三酯为乙酰柠檬酸三丁酯或乙酰柠檬酸三乙酯中的一种;
[0017] 所述的纤维素为醋酸纤维素或醋酸丁酸纤维素中的一种。
[0018] 上述光学元件加工用材料的制备方法,该方法具体步骤如下:
[0019] 将上述各组分按量依次加入到不锈钢反应釜中,加热65~75℃,氮气保护搅拌均匀后即得到磨砂玻璃抛光固定用胶粘剂。
[0020] 以下实施例采用的性能测试如下:
[0021] 1.拉伸剪切强度测试
[0022] 按照国家标准GB/T7124‑2008“胶粘剂拉伸剪切强度的测定(刚性材料对刚性材料)”,根据本项目的实际使用情况,采用采用长×宽×厚为76.2mm×25.4mm×1.2mm的玻璃试片用作本发明胶粘剂进行粘结(粘结搭接长度10mm)。玻璃试片两头分别用长×宽×厚为80mm×25.4mm×2mm的钢片与玻璃搭接并用环氧胶粘合(搭接长度20mm,搭接面都与玻璃间的搭接面在同一平面上),待环氧胶完全固化后夹住钢片进行拉伸剪切强度测试。
[0023] 2.脱胶时间测定:
[0024] 采用长×宽×厚为76.2mm×25.4mm×1.2mm的玻璃试片用作本发明胶粘剂进行完整粘结。5小时后将玻璃置于丙酮溶剂中,记录玻璃分离脱开的时间。
[0025] 3.玻璃镜面检测面形精度PV值:参考国家标准《GB/T 2831‑2009光学零件的面形偏差》,检测脱开分离玻璃。
[0026] 实施例1
[0027]
[0028] 将上述各组分按量依次加入到不锈钢反应釜中,加热65℃,氮气保护搅拌均匀后即得到光学元件加工用材料。按照实施例设立5组,其性能见表1:
[0029] 表1.
[0030]序号 拉伸剪切强度(MPa) 脱胶时间(小时) PV值(λ)
1 11.5 4.6 0.07
2 11.0 4.3 0.08
3 10.6 5.2 0.07
4 10.2 6.2 0.04
5 10.6 6.0 0.05
[0031] 实施例2
[0032]
[0033]
[0034] 将上述各组分按量依次加入到不锈钢反应釜中,加热65℃,氮气保护搅拌均匀后即得到光学元件加工用材料。按照实施例设立5组,其性能见表2:
[0035] 表2.
[0036] 序号 拉伸剪切强度(MPa) 脱胶时间(小时) PV值(λ)1 10.5 4.6 0.06
2 10.2 5.3 0.07
3 10.5 6.2 0.06
4 11.2 5.2 0.04
5 10.8 6.0 0.04
[0037] 实施例3
[0038]
[0039] 将上述各组分按量依次加入到不锈钢反应釜中,加热65℃,氮气保护搅拌均匀后即得到光学元件加工用材料。按照实施例设立5组,其性能见表3:
[0040] 表3.
[0041]
[0042]
[0043] 上述实施例并非是对于本发明的限制,本发明并非仅限于上述实施例,只要符合本发明要求,均属于本发明的保护范围。
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