实施方案
[0022] 下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0023] 实施例1
[0024] 参照图1‑2，一种自维护式甲醛处理设备，包括壳体1、出风口2和进风口13，出风口2位于壳体1的顶部，进风口13位于壳体1下半部分侧壁处，气流自下而上进行循环，壳体1内从上到下依次安装有滤网5、紫外灯6、扁平毛刷9、U形管11、净化层板12和回流槽14，滤网5的安装方向水平于出风口2的方向，紫外灯6安装在壳体1的内壁上，扁平毛刷9滑动时恰好扫过紫外灯6发光面的灯壁处，净化层板12的表面覆有光触媒介质层，对甲醛起到催化分解的作用，壳体1的侧壁上对称设置有两个限位滑槽7，扁平毛刷9的两端通过配重滑块8分别与两个限位滑槽7滑动相连，进风量较小时，在配重滑块8的重力作用下，扁平毛刷9始终位于紫外灯6的下方，不会遮挡紫外灯6，壳体1上对称卡接有两个水箱3，水箱3可以取下清洗，也可以直接向水箱内加水，壳体1的侧壁内对称开设有两个连接槽16，每个水箱3与对应的连接槽16之间均连通有短管4，U形管11的两端分别与两个连接槽16相连通，每个连接槽16内均密封滑动设置有阻块17，且每个阻块17与相应的连接槽16的内壁之间均固定安装有弹簧18，阻块17充当水阀的作用，当阻块17的位置与短管4、U形管11相对应的时候，如图2所示，水箱3内的水无法通过连接槽16。
[0025] 本实施例中，扁平毛刷9包括骨架和刷丝，骨架靠近配重滑块8处为开口向下的弧形轻质板拼接而成，弧形轻质板可以增加迎风面积，使扁平毛刷9随着进风量的增加而容易向上滑动，增加对紫外灯6的清洁次数。
[0026] 本实施例中，每个阻块17均为弱磁体制成，每个配重滑块8均为铁磁性金属制成，弱磁体受距离较近的配重滑块8的影响，不受其他零部件的影响。
[0027] 本实施例中，U形管11靠近净化层板12的部分对称开设有多个喷洗孔，且每个喷洗孔的开设方向均朝向净化层板12。
[0028] 本实施例中，回流槽14与两个水箱3之间连接有多根毛细管15，可以利用毛细作用回收回流槽14内的水进入水箱3内。
[0029] 本实施例可通过以下操作方式阐述其功能原理：气流自下而上循环流动，由进风口13进入壳体1内，从出风口2流出壳体1，当进风量较小时(通过改变风机的功率来实现进风量的变化，对于空气净化设备而言，风机为常见装置，因此未在附图中示出)，空气向上流动的推动力不足以克服扁平毛刷9以及配重滑块8的重力，此时阻块17的位置如图2所示，水箱3内的水溶液无法向下流动，在紫外灯6的照射下，净化层板12上的光触媒介质对空气中的甲醛进行催化、分解，使之转化为无害的二氧化碳气体和液态水，净化后的空气随之从出风口2处流出；
[0030] 当进风量增大时，扁平毛刷9两侧的开口朝下的弧形轻质板会受到较大的推动力，使扁平毛刷9与配重滑块8共同沿限位滑槽7向上滑动，扁平毛刷9向上滑动的过程中会将紫外灯6表面的灰尘拂去，保证紫外灯6的光线能充分照射到壳体1内，当配重滑块8运动到与连接槽16位置相对时，配重滑块8与阻块17相互吸引，阻块17会克服弹簧18的形变力向配重滑块8的方向滑动，使短管4与U形管11连通，水箱3内的水溶液会自动进入U形管11内并从喷洗孔喷至净化层板12上，净化层板12表面覆有光触媒介质层，而光触媒材料具有超亲水性，只需要用清水喷淋即可达到洁净表面的目的，从而保证甲醛气体始终能与净化层板12充分接触；
[0031] 进风量恢复正常后，配重滑块8与扁平毛刷9在重力作用下向下滑动复位，再次清洁紫外灯6表面，且配重滑块8与阻块17交错分离后，阻块17会在弹簧18的弹力下复位，U形管11停止喷淋，因为进风量较小时，紫外灯6上积累的灰尘量较少，所以能达到节约用水的目的，与此同时，毛细管15在毛细作用下将回流槽14内的积水逐渐转移到水箱3内，从而使水资源循环利用。
[0032] 实施例2
[0033] 参照图3，本实施例与实施例1不同之处在于：滤网5与壳体1的内壁滑动相接，每个水箱3的底壁上均密封贯穿设置有弹性囊10，且两个弹性囊10的底部均与滤网5的上表面相抵。
[0034] 本实施例可通过以下操作方式阐述其功能原理：滤网5未与壳体1固定，当进风量增大时，滤网5也会受到气流的抬升作用，从而挤压弹性囊10的下部，因为弹性囊10与水箱3接触点相对固定，所以弹性囊10位于水箱3内的部分体积会增加，且进风量越大，增加的体积也会越大，从而使水箱3内的压强得到明显提高，此时，从喷洗孔喷出的水流具有更大的冲击力，对紫外灯6表面的清洁效果更好，不需要人工清洗，从而达到设备自发性维护的目的。
[0035] 以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
