一种抗反射结构及其构筑方法   0    0

本发明公开了一种抗反射结构及其构筑方法，该结构包括亚微米或微米电介质微球沉积在基底表面而成的单层自组装结构以及涂覆在所述自组装结构表面的折射率匹配的电介质纳米材料多层膜，其中的纳米材料多层膜自下到上的折射率梯度变化。本发明利用亚微/微米半球形结构表面实现对不同入射角度光的调控，利用折射率递变的多层膜实现对宽波段入射光的调控，获得理想的全向抗反射微结构，实现在30～80度入射角和400～1200nm波长范围内具有良好抗反射结构，且随着入射光角度的增加，抗反射能力增强。

1.一种抗反射结构的构筑方法，其特征在于包括以下步骤：
a、将基底(2)置于稀酸溶液中浸泡清洗，再用蒸馏水、乙醇分别冲洗三次，然后在丙酮中超声洗涤至少20分钟，用去离子水冲洗干净，干燥后冷却备用；
b、采用对流自组装法在基底(2)表面沉积亚微米或微米电介质微球单层自组装结构(3)，形成一起伏表面于基底(2)表面；
c、采用旋涂法将不同折射率的纳米溶胶在所述自组装结构(3)表面层叠涂覆成纳米材料多层膜(4)，形成抗反射结构；
d、对步骤c的抗反射结构进行热处理使得溶剂挥发和结构致密化即可；
其中的电介质微球为透光率大于95％二氧化硅微球，其粒径为0.8～3μm；
其中，不同折射率的纳米溶胶为纳米二氧化硅溶胶和/或纳米二氧化钛溶胶纯溶胶调配成的，每种纳米溶胶的粒径为10～30nm；
所述的纳米材料多层膜(4)自下到上的折射率梯度变化，总层数为4～12层，自下而上，第一层为纯纳米二氧化钛层，最后一层为纯纳米二氧化硅层，所述纯纳米二氧化硅层的膜层厚度为120～150nm，所述纳米材料多层膜(4)的总厚度不小于电介质微球的半径。

2.根据权利要求1所述的一种抗反射结构的构筑方法，其特征在于所述的对流自组装法沉积单层自组装结构(3)的条件为：沉积板(7)与基底(2)之间的契角为20～45度，电介质微球(1)的悬浮 液质量百分比浓度为4～20％，悬浮液溶剂是水或乙醇，电介质微球(1)的悬浮液用量10～100μL，沉积速率为0.02～0.12mm/s。

3.根据权利要求1所述的一种抗反射结构的构筑方法，其特征在于所述步骤c中每层膜的涂膜工艺为：先低速500rps旋涂6s，随后将速度控制在1000～4000rps旋涂30～60s，旋涂滴液量为1～6mL。

4.根据权利要求1所述的一种抗反射结构的构筑方法，其特征在于所述的步骤c中的热处理条件为80～200℃条件下加热1分钟。