[0032] 下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明。
[0033] 实施例1
[0034] 一种釉面砖磨削除釉装置，如图1和图2所示，包括有外框1、框板2、水箱3、第一滑轨31、阻挡机构4、磨削机构5和倒角机构8，外框1的中部上侧连接有框板2，外框1的左上部栓接有水箱3，水箱3与外框1之间焊接有用于放置釉面砖的第一滑轨31，水箱3上设置有用于阻挡水液的阻挡机构4，外框1上设置有用于对釉面砖进行打磨的磨削机构5和用于自动对釉面砖进行倒角的倒角机构8。
[0035] 如图3和图4所示，阻挡机构4包括有斜面板41、滑套42和第一弹簧43，外框1的中部左内侧、水箱3的下部右内侧均栓接有两个呈前后对称式设置的滑套42，对称的两个滑套42之间滑动式设有用于挡住水箱3的斜面板41，斜面板41与水箱3接触，斜面板41与滑套42之间连接有用于复位的第一弹簧43。
[0036] 如图5和图6所示，磨削机构5包括有打磨盘51、电机52、转动轴53和第一转杆54，外框1的中部前后两内侧均通过螺丝连接的方式安装有用于动力输出的电机52，电机52的输出轴上连接有转动轴53，两根转动轴53相互靠近的一端上均转动式贯穿有第一转杆54，第一转杆54的中部连接有打磨盘51。
[0037] 如图9和图10所示，倒角机构8包括有固定板71、第二转杆81、直齿轮82、丝杆83、螺纹套84、第三转杆85、缺齿轮86、皮带87和弹性推杆88，外框1的前上部和后上部均转动式贯穿有位于电机52上方的第二转杆81，外框1的上部前后两内侧之间栓接有两块分别位于第二转杆81的左方和右方的固定板71，两根第二转杆81之间焊接有丝杆83，丝杆83的前后两端均螺纹连接有套设在其外侧且与固定板71滑动式配合的螺纹套84，螺纹套84的下部连接有用于推动打磨盘51的弹性推杆88，弹性推杆88与打磨盘51接触，两根第二转杆81相互靠近的一端上均套设有直齿轮82，外框1的上部前后两内侧均转动式设有位于第二转杆81正下方的第三转杆85，前方第三转杆85的后部套设有与直齿轮82啮合的缺齿轮86，后方第三转杆85的前部也套设有与直齿轮82啮合的缺齿轮86，电机52的输出轴与第三转杆85之间通过皮带轮绕设有用于传输动力的皮带87。
[0038] 如图6所示，还包括有用于复位打磨盘51的扭簧55，第一转杆54与转动轴53之间连接有两根用于复位打磨盘51的扭簧55。
[0039] 当操作人需要使用本装置对釉面砖进行除釉的操作时，首先，操作人从左往右将釉面砖放置进水箱3内的第一滑轨31上，釉面砖首先会挤压左方的斜面板41，斜面板41随即向上移动，第一弹簧43压缩，釉面砖继续向右移动会松开斜面板41，第一弹簧43复位，斜面板41会在第一弹簧43复位的作用下向下移动复位，此时的釉面砖位于水箱3内的第一滑轨31上，操作人再往水箱3内注入水液，通过水液对釉面砖进行浸湿处理，从而使得釉面砖的表面软化，降低釉的硬脆性，以此在后期对釉面砖进行打磨的过程中，避免釉面砖发生釉层崩裂的现象，同时，通过斜面板41会避免水液溅出，从而保证操作环境，待第一块釉面砖的浸湿处理完成后，操作人将第二块釉面砖放置进水箱3内的第一滑轨31上，第二块釉面砖会推动第一块釉面砖向右移动，以此对第二块釉面砖进行浸湿，如此往复便能够通过下一块釉面砖来推动浸湿好后的釉面砖，最后一块釉面砖则需要操作人通过工具来进行推动，而第一块釉面砖在向右移动的过程中会挤压右方的斜面板41，斜面板41随即向上移动，第一弹簧43压缩，釉面砖继续向右移动会松开斜面板41，第一弹簧43复位，斜面板41会在第一弹簧43复位的作用下向下移动复位，此时的釉面砖位于两片打磨盘51之间，操作人启动电机
52，电机52的输出轴会带动转动轴53旋转，转动轴53会带动其上设置有的所有零部件旋转，从而使打磨盘51旋转对釉面砖的前后两侧进行打磨，与此同时，转动轴53旋转会通过皮带
87带动第三转杆85旋转，第三转杆85会带动缺齿轮86旋转与直齿轮82啮合，直齿轮82会通过第二转杆81带动丝杆83旋转，丝杆83会带动前后两个螺纹套84向相互靠近的方向移动，前后两个螺纹套84分别会带动前后两根弹性推杆88向相互靠近的方向移动，弹性推杆88在移动的过程中会推动打磨盘51旋转，以此使打磨盘51倾斜，从而使得打磨盘51对釉面砖进行倒角处理，而打磨盘51旋转会带动第一转杆54旋转，扭簧55形变，然后缺齿轮86继续旋转会脱离直齿轮82，打磨盘51继续旋转会挤压弹性推杆88形变，随后缺齿轮86继续旋转会再次与直齿轮82啮合，打磨盘51继续旋转会松开弹性推杆88，弹性推杆88恢复形态，直齿轮82会通过第二转杆81带动丝杆83旋转，从而使弹性推杆88再次推动打磨盘51旋转，以此继续进行打磨操作，在打磨操作完成后，操作人关闭电机52，通过后一块釉面砖将打磨完成后的釉面砖从第一滑轨31上向右推出，在将釉面砖从第一滑轨31上向右推出后，操作人再对打磨好的釉面砖进行烘干处理，以此完成对釉面砖进行除釉的操作。
[0040] 实施例2
[0041] 在实施例1的基础之上，如图1和图7所示，还包括有用于烘干釉面砖的干燥机构6，干燥机构6包括有干燥网61、风扇62和固定杆63，外框1的右部前后两内侧均栓接有两根呈左右对称式设置的固定杆63，四根固定杆63之间通过螺丝连接的方式安装有用于使空气流通的风扇62，外框1的右部栓接有位于风扇62上方的干燥网61。
[0042] 在将釉面砖从第一滑轨31上向右推出后，操作人将釉面砖放置在干燥网61上，然后操作人启动风扇62，通过风扇62对釉面砖进行吹干处理，以此使釉面砖干燥，避免水液对釉面砖造成侵蚀，在釉面砖的吹干处理完成后，操作人再关闭风扇62，将吹干后的釉面砖从干燥网61上取出即可。
[0043] 实施例3
[0044] 在实施例2的基础之上，如图2、图8和图11所示，还包括有用于固定釉面砖的定位机构7，定位机构7包括有下压架72、第二弹簧73和第二滑轨93，两块固定板71的中部之间滑动式贯穿有用于固定住釉面砖的下压架72，下压架72的下侧面为中间向下凸起的弧形面，下压架72与固定板71之间连接有两根第二弹簧73，下压架72的上侧焊接有两根呈左右对称式设置的第二滑轨93。
[0045] 在釉面砖浸泡完成后向右移动时，釉面砖在向右移动的过程中会挤压下压架72向上移动，第二弹簧73压缩，然后通过下压架72将釉面砖稳定在第一滑轨31上，以此在对釉面砖进行打磨的过程中，避免釉面砖发生位移，待釉面砖打磨完成后，操作人通过第二滑轨93带动下压架72向上移动松开釉面砖，第二弹簧73继续压缩，操作人将釉面砖从第一滑轨31上向右推出，松开第二滑轨93，第二弹簧73复位，第二滑轨93会在第二弹簧73复位的作用下向下移动复位，以此准备下次的釉面砖稳定打磨操作。
[0046] 实施例4
[0047] 在实施例3的基础之上，如图2、图11和图12所示，还包括有用于擦拭灰尘的除尘机构9，除尘机构9包括有擦拭棉91、推板92、第三弹簧94和接触杆95，两根第二滑轨93的前部之间和后部之间均滑动式套设有推板92，两块推板92之间连接有两根第三弹簧94，两块推板92相互远离的一侧上均栓接有两根呈左右对称式设置的接触杆95和用于对釉面砖进行擦拭的擦拭棉91。
[0048] 在打磨釉面砖的过程中，擦拭棉91会与釉面砖进行接触，倾斜的打磨盘51在旋转的过程中会挤压接触杆95向内移动，接触杆95会带动推板92向内移动，第三弹簧94压缩，推板92向内移动会带动擦拭棉91向内移动，随后打磨盘51继续旋转会松开接触杆95，第三弹簧94复位，推板92会在第三弹簧94复位的作用下带动擦拭棉91向外移动，打磨盘51继续旋转会再次挤压接触杆95，从而在对釉面砖进行打磨的过程中，通过擦拭棉91对打磨产生的粉尘进行擦拭，进而方便于后期的烘干处理。
[0049] 以上所述实施例仅表达了本发明的优选实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形、改进及替代，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
