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一种掩膜法静电纺一体化铜导电膜层及其制备方法
一种掩膜法静电纺一体化铜导电膜层及其制备方法
发明专利
有效专利
导电膜层
申请日:
2020-10-20
当前状态:
授权
国际分类号:
D04H1/4382
、
D04H1/728
、
D06C7/04
、
D01F8/18
发明人:
屈银虎,王钰凡,高浩斐,张红,何炫,张学硕
申请人:
西安工程大学
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